高真空・超高真空対応プローブ。低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能。

高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ

1,000 cm-1/sで100cm-1のチューニング。 中心波長< 4 から > 13 μmの量子カスケードレーザー(QCL)ベース 中赤外 (mid-IR) 波長可変レーザー。

レーザー使用時に必須の保護めがねとゴーグル等を提供しております。形状・機能･用途に応じて幅広いモデルをラインナップ。適合規格EN CE に対応した製品もご用意しております。

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

VisiVector PIVシステムには、PIV計測を行うための様々なアクセサリーがあります

インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・色測定に最適。
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン。

偏光依存損失 (PDL), 挿入損失 (IL), デバイスの光パワーをわずか30ミリ秒で同時測定。低/高の両PDL値を測定可能。

クラッド径: 125 – 1200 µm、ファイバコーティング: 250 – 1500 µm、3D画像生成対応モデルのご用意もございます。

ファイバーコイルは長さ50m〜5km、直径15mm〜120mmに対応します。コイルは独自の含浸接着剤で構成され、信頼性を高められています。

ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速＆高品質 表面クリーニング。100W or 200W出力モデル

高い波長分解能 (±0.0001 nm) で可視域から中赤外(MIR) 375 nm to 12 μm をカバーする671シリーズと、パルスとCWの両レーザー対応、高速（1kHz）, 高い測定確度 (±0.2 ppm)をもつ871シリーズがございます。Bristol Insturments社では信頼性の高い供給ラインの構築に努めており、ご注文から約3か月の安定した納期でお納めできます。

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器（SMU）です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ（1064, 532 nm）。最高3W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

偏光モード分散（PMD）、偏光依存損失（PDL）、SOP（偏光状態）の計測・評価に

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

高速かつ高い信頼性を実現した光スイッチで、テスト工程の効率化を実現します。スイッチの構成、ファイバの種類、コネクタなど、幅広くカスタマイズが可能です。

数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J＠532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

入力された偏光のSOPの高速変動を安定化して出力。2ポートまたは3ポート。

PMD-1000は、フレキシブルなデジタルPMDソースです。１次の偏波モード分散を 180ps まで、２次の偏波モード分散を 8100ps まで精密に生成します。
疑似連続オペレーションモードにより、独立した１次と波長に依存しない２次の偏波モード分散の生成を可能にします。
PMD-1000は３つの高速光磁クリスタルを用いてPMDを生成します。
PMDの切り替え時間はわずか1ミリ秒程度で、市販されているどのPMD生成器よりも高速です。

あらゆる偏光状態(SOP)を生成・保持するSOP発生器と偏光分析器の兼用装置

高出力（BrixX HP）または縦単一周波数（BrixX NB）モデル。375～2080nmの範囲で多彩な波長ラインナップ、最大出力5W