従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

光パラメトリック発振器（OPO）での 波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の波長領域と広範囲で調整可能。コンピュータでの制御で自動波長調整。
【NEW！】可視域での波長可変域をさらに拡大したC-WAVE GTR発売（2021年5月）

世界最高クラスの1PW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高5Hz

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ（ダイヤモンドAFMカンチレバー）

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

テラヘルツ分光を用いた日々のルーチン測定向けの簡単・使い易い非接触・非破壊分析装置。周波数範囲 0.1～4.0 THz、最大ダイナミックレンジ 70 dB。

出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

直接駆動超精密ステージからピエゾモータ直進ステージまで、200モデル以上を展開

卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®

最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。複数のポジショナを組み合わせることも可能。

レーザービームスキャン（ランダム位置、ラインスキャン、連続スポットディフレクション）に最適なRF周波数制御ディフレクタ。高効率。スキャンレート　最高 250 kHz

偏光モード分散（PMD）、偏光依存損失（PDL）、SOP（偏光状態）の計測・評価に

波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 平均出力 >100 mW /1.3 W。 幅広いゲイン波長域、低ノイズ、優れた出力安定性を有します。

3つの個別の発光波長 RGB（450、510、635 nm）をピコ秒パルスおよびCWモードで動作可能なレーザー。最大パルス出力 5mW ｡コンパクトでスタンドアロンな手頃な価格のレーザーです。

最大500 mJもの高パルスエネルギーと最大 1TWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs

高いチューナビリティ（繰り返し周波数、パルス幅、波長）と複数のオプションで非常に高い柔軟性。
1μm, 1.55μm, SHG, 波長可変可。平均出力 最大30W。パルス幅 30ps to ms。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。

高性能ながら小型で使いやすいターンキーシステム。繰り返し周波数を連続的に可変。
1064 or 1550 nm, SHG可。平均出力 50mW～30W。パルス幅 30ps。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。