高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

S neoxは多機能かつ高性能な機能をもつ組込み可能な3D測定センサです。共焦点・白色干渉計・焦点移動による3D表面形状測定加えて、膜厚測定ができ、幅広いアプリケーションに対応。自動3D測定が可能。

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

世界最高クラスの1PW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高5Hz

最大６波長、市場で最高クラスの最大1W高出力LED光源。LEDチップのアクティブ温度コントロールと高安定性電流源で高安定性＆高再現性の出力を保証。

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。

空冷の 1064nm 20W出力 CWレーザー。低ノイズ、狭線幅、高安定性の「ザ・プレミアム」ファイバレーザー。

PicoQuantのフォトンカウンティング(光子計数)向けの幅広い製品には、時間相関シングルフォトンカウンティング（TCSPC）とイベントタイミング用の高性能モジュール、シングルフォトンセンシティブ検出器、および（時間分解）蛍光測定と量子相関の評価用の専用分析ソフトウェアが含まれます。

VisUVでは波長266nm～590nm、最大100mW、レーザービームを3本まで平行出力可能。VisIRでは1064nm 、1530nmで高出力用途に対応。STED顕微鏡用ディプレッション・レーザー (766nm) に最適。オプションで周波数変換も可能。

完全自動プロセスでアクリルコーティングを除去。ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去するストリッピングおよびファイバプリパレーションシステム。

最大500 mJもの高パルスエネルギーと最大 1TWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs

中赤外スーパーコンティニューム光源の励起に最適。中心波長 1900～2000 nm、繰り返し周波数 kHz～MHz、パルスエネルギー10 μJにて最大出力10 W

高分解能・高速応答。動的変位測定のスタンダードモデル。

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

独自の単一感度を持つ時間分蛍光顕微鏡。最大で6つの個別チャンネル検出が可能。蛍光寿命イメージング（FLIM)、FLIM/FRET、深部組織FLIM、PIE、FCS/FCCS、FLCS/FLCCS、二重焦点FCS、スキャニングFCS、異方性、バースト解析等が可能。２DおよびDイメージング用のピエゾスキャンに対応。

優れた温度特性と高分解能を実現。制御用途でのフィードバックセンサに最適。

VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。

高耐荷重・ロングトラベルタイプから高精度タイプまで幅広い精密垂直ステージをラインナップ

偏波関連の計測装置 / 分析装置をラインナップ。

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器　バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

クラッド径80～1000μmの範囲で光ファイバの高精度切断に対応。大量生産環境において安定した結果と高い生産性を提供します。

高速・高分解能・高精度な偏向器
深紫外、紫外、可視から近赤外域まで対応