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製品情報
INCA 多重分光近接ビーコン
VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。
PDL エミュレータ“PDLE-101”
高速トランレシーバなどのPDL誤差計測やPDLトラッキング速度の定量化などPDL関連の検査・計測に最適なPDL発生＆エミュレータ
LIBSオンライン元素分析システム
オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析等が可能です。
高出力10mJ – 500 mJ デュアルパルスレーザー
Vliteシリーズは、デュアルパルス Qスイッチタイプのナノ秒レーザーです。高出力 10mJ – 500 mJ @ 532 nm, 高い繰り返し周波数 0.2 – 15 kHzで、PIVアプリケーションに最適です。
マイクロドリリングシステム“ProbeDrill 355”
高速・微細な多穴加工（円および四角形状）
1342 nm 671 nm 447 nm LD励起固体 Qスイッチ レーザー“IDOLシリーズ”
1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。
溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo
従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。
光ドップラー速度計測 ( PDV )
フォトニックドップラー速度計測（PDV）は、数10km/sまでの高速度事象の計測に用いられる確立された技術です。ヘテロダイン速度計とも呼ばれ、VISAR（Velocity Interferometer System for Any Reflector）の補助ツールまたは代替ツールとして使用することが出来ます。
高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”
レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns
200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ
出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒～ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。
半導体レーザー(LD)用コントローラ
ILX Lightwave (Newport Brand) は革新的で精度の高い装置、テストシステム、アクセサリを、充実のラインナップで提供しています。
簡易・小型 原子間力顕微鏡 AFM “CrabiAFM”
CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡（AFM）です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。
高ピークパワー Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP600シリーズ”
高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns
光パワーメータ
波長750～1700nmの光信号出力を-60～+10dBmの範囲で高速モニタリングが可能です。1500シリーズパワーメータは、アクティブファイバーアライメントに最適な対数アナログ出力を備えています。
レーザー走査型顕微鏡（LSM）用 コンパクト FLIM・FCS アップグレードキット
各社の多光子レーザー走査型顕微鏡に取り付けて、TCSPC（時間相関単一光子測定法）を用いた高感度・低ノイズのイメージングを可能にするTCSPCイメージング拡張キット。コンパクトFLIM・FCSアップグレードキット
光コネクタ端面3D測定干渉計
光コネクタの端面を3Dで測定可能な干渉計です。マイケルソン干渉計使用、幅広いタイプのファイバコネクタに対応した高分解能・広範囲で測定が可能。IEC（国際規格）に準拠した研磨品質の確認・コネクタ端面の形状の検査が可能です。
コンパクトピコ秒ファイバレーザー“SIDシリーズ”
高性能ながら小型で使いやすいターンキーシステム。繰り返し周波数を連続的に可変。
1064 or 1550 nm, SHG可。平均出力 50mW～30W。パルス幅 30ps。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。
消光比100％ 小型CWレーザー“PhoxX+”
消光比100% ＞180MHz デジタル変調。アナログ強度変調（＞25MHz ）も可。紫外375nm～赤外1550nm。最大出力300mW
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト
400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます
中赤外 (MIR) ブロードバンド光源 “ASE-2000”
中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可
ピコ秒パルスレーザー光源（波長 255nm～1,990nm）
ピコ秒パルスレーザー光源はレーザーダイオードベースまたはLEDベースのデバイスです。繰返し周波数は最大100MHzまでユーザーせ調整が可能です。 255nmから1990nmまでの離散波長をカバー。 最短パルス幅40ps。RGB3色ピコ秒レーザーをリリース（2021年11月）
DUV Qスイッチ LD励起レーザー“IMPRESS 213 ”
213nm 150mW / 224nm 300mW。最高繰返し周波数 30kHz。最小パルス幅 7ns。最大エネルギー30 μJ＠224nm
高出力マイクロチップレーザー装置 ナノ秒mJパルス“HiPoLas”
最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2～10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト＆高出力
