AMPHOS社製高出力ピコ秒レーザーは、理科学用途から産業まで非常に広いアプリケーションにお使いいただけます。
理科学用途では、高い平均出力により計測時間を大幅に短縮できます。

NKT Photonics社のKoherasシリーズ 単一周波数ファイバレーザーは、チューリッヒ工科大学で研究されている石英ガラスの真空浮遊ナノ粒子の磁気光学トラップにおいて重要な要素です。

フォトンエナジー社 レーザーマーキング・レーザープロセス製品によるアプリケーション例：プラスチック加工（炭化、彫刻、発泡成形、素材除去）

ナノ粒子や量子ドットの特性評価では、高解像度検査、材料の局所的変更、高密度場、強度強化など、目的に適応できる光源が必要です。NKT Photonics社のSuperK スーパーコンティニューム白色光レーザーは、非常に柔軟性に優れ、ナノ粒子や量子ドット研究で求められる多様なパラメータを提供します。

CANLAS社のQスイッチ半導体励起固体レーザーを用いた溶接加工の例をご紹介します。

蛍光寿命イメージング（FLIM）は、蛍光体の異なる蛍光減衰時間を分離することで、従来のイメージングにおける強度とは異なる画像コントラストを作り出す技術です。

ダイヤモンドの窒素-空孔（NV）中心は、室温の量子ビットプラットフォームへの応用が可能です。NVセンターを励起するには、波長 450～650 nm の光が必要です。NKT Photonics社のSuperK スーパーコンティニューム白色光レーザーは、調整可能で広範なスペクトルと非常に高いビーム品質により、世界の多くの研究者に利用されています。

SENSOFAR社の3D測定顕微鏡は、共焦点・光干渉・焦点移動（フォーカスバリエーション）方式の標準的な原理だけでなく、それらの技術をさらに革新させた共焦点技術や膜厚測定などの先進的な測定、観察方式を有しています。

CryLaS社小型＆低ノイズレーザーシステムによるフォトルミネッセンスの例をご紹介します。

OCT(光干渉断層撮影法)は高解像度で生体やサンプル内部を画像化します。General PhotonicsはOCT用コンポーネントを広くサポートしています。

PIV は流体の可視化する光学的手法です。流体内トレーサー粒子がレーザーにより照らされ、方向速度を測定することが可能です。二次元/三次元 PIV、トモグラフィ PIV、時間分解 PIVに向けたレーザーをラインナップいたしております。

CryLaS社小型＆低ノイズレーザーシステムによるラマン分光法の例をご紹介。

ヘキサポッドは、最大6つの軸で高負荷容量と精度に対応するステージです。 平行キネマティックモーションデバイスは、多軸ポジショニングのコンパクトなソリューションで6つの自由度（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）を持ちます。 ここではその仕組みと優れた機能性、アプリケーションについて紹介いたします。

Photon Energy社のレーザーマーキングシステム用のソフトウェア

Sensofar 組込みセンサによるCMP（Chemical Mechanical Planarization）工程のパッドの平坦性の測定・解析。S mart によるCMPの測定によって、CMPパッドは全般的に十分活用されておらず、多くの場合は有効な製品寿命が半分以上残ったまま廃棄されていることが明らかになっています。

半導体の電荷キャリアダイナミクスはウェハ材料の性質と品質を直接反映します。この特性を明らかにするため、光励起された電子と正孔の拡散長の正確かつ効率的な測定することが不可欠です。これには時間分解フォトルミネッセンス消光実験、すなわち時間相関単一光子計数（TCSPC）による時間分解フォトルミネッセンス（TRPL）が有効です。PicoQuant社の分光計 FluoTime 300や、励起光源としてTaiko PDL M1 レーザードライバ駆動のピコ秒パルスレーザーにより、電荷キャリアダイナミクスに影響を与える現象を最短サブナノ秒の時間スケールで直接分析できます。

レーザーで発生させた超音波により、材料の特性評価・非接触での厚み測定、欠陥検出などが可能です。産業用途でのオンライン監視などで活用されています。

フォトンエナジー社 レーザーマーキング・レーザープロセス製品によるアプリケーション例：セラミック加工

シンプル、優れた柔軟性、高精度なレーザーマーキングを可能にするカメラシステム

Oxford Laser Aシリーズによるレーザーマイクロ加工についてご紹介いたします。

LIDAR システムのパフォーマンスは、レーザーの選択で決まります。異なる用途には、異なるレーザーが必要です。NKT Photonics社のレーザーをLIDARシステムに導入することで、ターゲット上の点、精度、角度解像度、空間解像度、点密度、射程の点で優れたパフォーマンスが得られます。

半導体メーカーは、効率的で高密度なチップを製造しなければなりません。生産から品質保証に至るまでのすべての工程に共通する条件は、最高の精度と信頼性を確保し、品質を最大限に高めることです。attocube社の高精度部品は、これらの要求にお応えし、半導体アプリケーションに最先端の技術を提供します。

データ伝送の高速化、通信ネットワークの拡大、家電製品の普及により、フォトニクス業界ではさらなる小型化が求められています。そのため、非常に小さくて複雑な部品を作り、組み立てる必要があります。個々の部品はナノメートル単位の微細な構造で構成されており、高度な光学システムによって作成または検査されます。フォトニクスやオプティクスのアプリケーションにおいて、高精度な位置決めを達成することが重要です。attocube社のモジュール式ナノ位置決めステージは、複雑な多軸アプリケーションにも優れた精度と信頼性を提供します。

光パラメトリック発振器（OPO）向けの励起用レーザーをラインナップいたしております。