DGD, 2次 PMD, PDL の校正標準器。使用材料固有の光学及び複屈折特性により、高い精度を保証。

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

512ポイントでの測定が可能な温度計測用高精度ラインスキャナ

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。

WDMカプラ、スプリッタ、バンドパスフィルタ、PMビームスプリッタ、サーキュレータなど、お好みの受動光コンポーネントを搭載することができます。 PXIeおよびベンチトップモデルでは、SMF、MMF、PMFをサポートしています。

ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速＆高品質 表面クリーニング。100W or 200W出力モデル

単一光子検出共焦点蛍光顕微鏡。最高のデータ品質と使い易さを兼ね備えた蛍光顕微鏡です。自動化により測定時間を短縮を実現。実験室に簡単にインストールいただけます。

355 nm, 532nm, 420～1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd：YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ：1μm ～15,600μm。速度：～1,000m/s@100μm

最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール（355～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。

世界最大コア径、広いモードエリア、ポンプ光が高効率、非線形を抑制。パッシブダブル/シングルクラッドファイバとの完璧な組み合わせ。