種々のコンポーネントやアプリケーションに柔軟に対応できる製品を多数ラインナップ

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

消光比100%　＞180MHz デジタル変調。アナログ強度変調（＞25MHz ）も可。紫外375nm～赤外1550nm。最大出力300mW

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）

シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。

卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®

世界で唯一、4本のSED検出器による高コントラスト観察画像とナノレベル立体形状の取得が可能。高分解能SEM観察と試料表面の形状測定、表面形状のパラメータ算出も一台で完結。精密工学会技術賞を受賞しました。

レーザーを使った非破壊検査システム。計測・測定ソリューションOCT、LIDAR、共焦点イメージング、フォトルミネッセンス分光測定、3Dマッピング、深度計測が可能。レーザー診断、高精度大型製品向け検査、リベット検査（航空宇宙）、自動車など様々で活用されています。

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

日常業務用、教育用のコンパクトな卓上分光計から、数ピコ秒単位で測定可能な高性能の分光計まで多彩な蛍光分光計をラインナップ。サンプルは液体（キュベット）、固体、ウェファーに対応。　ソフトウェアでデータフィッティング、減衰分析に対応。

各種システム・装置の偏波特性を多様化し、性能の最適化をサポートする多彩な偏波関連モジュール

213nm 150mW / 224nm 300mW。最高繰返し周波数 30kHz。最小パルス幅 7ns。最大エネルギー30 μJ＠224nm

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

超安定、長寿命、コンパクトなCO2、COレーザーです。堅牢で信頼性の高いレーザーシステムを設計、開発、製造を行っています。

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒～ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

スペックルパターンのランダム化技術により、マルチモードファイバの出力を均一化

エアー式ディスペンサでは実現不可能な細線描画、ピエゾ式インクジェットでは不可能な高粘度吐出を可能にする従来の常識を覆した高機能パターニング技術。

優れた温度特性と高分解能を実現。制御用途でのフィードバックセンサに最適。

使い易いスーパーコンティニューム光源。390～2400nm の波長をカバーするシングルモード出力。波長可変レーザーとしても使用可能。可視光から近赤外・中赤外までの広い波長域をカバー。単一周波数光源に匹敵する良質なビーム品質（ガウシアン, シングルモード, M2 < 1.1）。高輝度、非偏光。

高出力波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の広範囲な波長領域で波長可変可能な光パラメトリック発振器（ OPO ）

最高の感度・精度・空間分解能・速度。測定パフォーマンスに優れた非常に小型で柔軟性の高い製品です。

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます