ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境（超高真空、高磁場）に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

超小型で高分解能（0.5μm）のレンズ位置制御と双方向再現性を実現したフォーカスモジュールです。クローズドループ制御で外部コントローラボードが不要。機器への組込みが容易なモジュールです。組込み用途でご使用いただけます。開発キットもご用意いたしております。

高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です。光トランシーバーや光学電子部品での設計、特性評価、製造用のテストで使用いただけます。

PMD-1000は、フレキシブルなデジタルPMDソースです。１次の偏波モード分散を 180ps まで、２次の偏波モード分散を 8100ps まで精密に生成します。
疑似連続オペレーションモードにより、独立した１次と波長に依存しない２次の偏波モード分散の生成を可能にします。
PMD-1000は３つの高速光磁クリスタルを用いてPMDを生成します。
PMDの切り替え時間はわずか1ミリ秒程度で、市販されているどのPMD生成器よりも高速です。

ピコ秒パルスダイオードレーザードライバー。PicoQuantのレーザー、LEDヘッドで繰り返し周波数率とパルスエネルギーを制御可能。 コンピューター制御のシングルチャネル、またはマルチチャネルユニットが利用可能。 独自の5年間限定保証。

最高の感度・精度・空間分解能・速度。測定パフォーマンスに優れた非常に小型で柔軟性の高い製品です。

スキャン不要の時間相関単一光子計数用のカメラ。手軽に個々の光子の到着時間とXY位置を計測。ラマン分光において、さらに蛍光寿命を利用することで、ラマン光と蛍光を分離・識別して測定することが可能。

種々のコンポーネントやアプリケーションに柔軟に対応できる製品を多数ラインナップ

感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能

光学顕微鏡を備えたAFMのプラットフォーム。高速走査かつ高分解能、原子力間顕微鏡によるイメージングを実現。空中や液体中での測定に対応。

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。（測定粒子サイズ 1～3000 µm）

PicoQuant社のピコ秒パルス半導体レーザー/LEDは、コンパクトで信頼性の高いターンキー・ソリューションです。ピコ秒パルス、変調、または高速スイッチ（nsec～µsec）モードで動作します。代表体なレーザーシステムは、共通のドライバユニットと交換可能なヘッドで構成されます。特殊な用途向けのスタンドアローンユニットもラインナップしています。

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

1台で最大 ~1000cm^-1 のチューニング範囲をカバーする CW & パルス中赤外量子カスケードレーザー（QCL）

光源や光学部品の PMD, PDL 等 偏光特性を測定。光磁気結晶を用いた特許デザインで高い精度と再現性を達成

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点（コンフォーカル）の技術による３D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。

長寿命プローブ：- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11

クラッド径80～1000μmの範囲で光ファイバの高精度切断に対応。大量生産環境において安定した結果と高い生産性を提供します。

回折限界の高いビーム品質。超短パルスレーザー用高出力ファイバ増幅モジュール。

ミニマル規格^※に準拠。コンパクトで可搬型ながら高解像度パターン観察を実現した、測長機能付SEM
（※「ミニマル」は独立行政法人産業技術総合研究所の登録商標です。）