ピコ秒パルス､キロワット出力。OPCPAポンピングやレーザー加工に好適です。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器（SMU）です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計。過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザインです。

S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

高出力波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の広範囲な波長領域で波長可変可能な光パラメトリック発振器（ OPO ）

最新の電気光学フィードバックループにより、レーザーの特性と機能を簡単に制御

高速かつ高い信頼性を実現した光スイッチで、テスト工程の効率化を実現します。スイッチの構成、ファイバの種類、コネクタなど、幅広くカスタマイズが可能です。