半導体の電荷キャリアダイナミクスはウェハ材料の性質と品質を直接反映します。この特性を明らかにするため、光励起された電子と正孔の拡散長の正確かつ効率的な測定することが不可欠です。これには時間分解フォトルミネッセンス消光実験、すなわち時間相関単一光子計数（TCSPC）による時間分解フォトルミネッセンス（TRPL）が有効です。PicoQuant社の分光計 FluoTime 300や、励起光源としてTaiko PDL M1 レーザードライバ駆動のピコ秒パルスレーザーにより、電荷キャリアダイナミクスに影響を与える現象を最短サブナノ秒の時間スケールで直接分析できます。

Sensofar 組込みセンサによるCMP（Chemical Mechanical Planarization）工程のパッドの平坦性の測定・解析。S mart によるCMPの測定によって、CMPパッドは全般的に十分活用されておらず、多くの場合は有効な製品寿命が半分以上残ったまま廃棄されていることが明らかになっています。

半導体の製造工程おけるSensofar製品の測定アプリケーションをご紹介します。重要な寸法の測定、3D測定、膜厚測定、粗さの特性評価、欠陥検査などでご使用いただけます。

Sensofar製品による切削工具向けのアプリケーション事例をご紹介します。共焦点、Ai焦点移動、光干渉法を使い非接触で耐用年数、性能、切削速度、精度を測定、特性評価が可能です。