ARCO H ハイブリットデュアル 1 kHz & 10 Hz フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ


メーカー Amplitude Technologies
 
超高速&超高強度チタンサファイアレーザーアンプ。デュアル繰返し周波数 1 kHz & 10 Hz, 最大パルスエネルギー 4 mJ @ 1kHz & 500 mJ @ 10Hz。

仕様

モデルARCO H (Hybrid Dual)
繰返し周波数 ※110 Hz & 1 kHz10 Hz & 1 kHz10 Hz & 1 kHz
パルスエネルギー ※24 mJ @ 1 kHz
& 25 mJ @ 10 Hz
4 mJ @ 1 kHz
& 100 mJ @ 10 Hz
4 mJ @ 1 kHz
& 500 mJ @ 10 Hz
パルス幅 (FWHM) ※3< 100 fs or < 35 fs< 100 fs or < 35 fs< 100 fs or < 35 fs
中心波長 ※4800 ± 10 nm800 ± 10 nm800 ± 10 nm
最大出力0.7 TW2.8 TW14 TW
ポンプレーザーTerra & Inlite IITerra & Surelite IIITerra & Inlite + Powerlite 2.5 J
エネルギー安定性(RMS) ※50.7 % @ 1 kHz
& 1.2 % @ 10 Hz
0.7 % @ 1 kHz
& 1.5 % @ 10 Hz
0.7 % @ 1 kHz
& 1.5 % @ 10 Hz
パワー安定性(RMS) ※62 %, 8時間以上
ナノ秒コントラスト比 ※7< 5×10-4 @1kHz & <1×10-6 @10Hz
ピコ秒コントラスト比 ※8< 5×10-7 @ 300 – 50 ps & < 10-6 @ 50 – 10 ps
ビーム品質 M2< 1.3< 1.5< 1.5
ポインティング安定性< 10 μrad RMS
偏光直線, 横偏光
ウォームアップ時間< 1時間

※1 1 kHz – 10 Hz(10 Hz 出力有効時)。他の繰返し周波数はご相談ください。
※2 他のエネルギー値はご相談ください。
※3 出荷時設定。ご発注時に設定をお申し付けください。出荷前に最適化いたします。
※4 パルス幅 100 fs 時 790 nm ±10 nm。他の中心波長値はご相談ください。
※5 2,000パルス以上。
※6 安定環境下で8時間以上。
※7 プリパルス, 再生増幅レプリカ。
※8 3次クロスコリレータ (SEQUOIA)で測定。

 

パルス幅 < 35 fs


 

オプション

  • 互いに独立の2圧縮ビーム出力
  • 最小パルス幅 20 fs
  • 1 kHz & 10 Hz 同時出力
  • 使い易いレーザー制御ソフトウェア

 

アクセサリー

  • エネルギー減衰器
  • アクティブビームポインティング制御
  • 真空互換コンプレッサ
  • Palitra OPA (波長可変域 230 nm – 17 μm)

高エネルギー用真空コンプレッサ
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