Photon Energy レーザー微細加工&レーザー・ストラクチャリング

Photon Energy

<p>フォトンエナジー社 レーザーマーキング・レーザープロセス製品によるアプリケーション例:レーザー微細加工、レーザー・ストラクチャリング</p>

フォトンエナジー社 レーザーマーキング・レーザープロセス製品によるアプリケーション例:レーザー微細加工、レーザー・ストラクチャリング

 

レーザー微細加工

Photon Energy (フォトンエナジー) 社のピコ秒レーザー Cepheus はガラスの微細加工に好適です。例えばラボ・オン・チップのように素材への熱的影響が品質を大きく損なうようなアプリケーションでは、超短パルスレーザーだけが有効なツールとなります。

推奨レーザー光源

 

レーザー・ストラクチャリング

LEOシリーズには複数のタイプ (LEO, LEO 532, LEO Mark) があり、それぞれに適したストラクチャリング用途は異なります。Photon Energy (フォトンエナジー) 社は特に、ディスプレイ製造や薄膜太陽電池の各プロセスにおける調査開発に注力してきました。1064nm Nd:Vanadateレーザー LEO は、TCOレイヤの高精細ストラクチャリングに最適です。また第二高調波 532nm 出力タイプは、吸収レイヤと金属板の選択的ストラクチャリングに有用です。製作パターンの最小幅は約15μm です。この解像度の実現は、一部の使用オプティクスに大きく依存します。LEOシリーズは信頼性と安定性に優れ、この困難なアプリケーションに対応可能です。

推奨レーザー光源

 

TOPに戻る