製品情報

製品一覧

コンパクト&高出力微細加工用ピコ秒レーザー“PicoBlade 2”

LUMENTUM (旧Time-Bandwidth Products)

従来モデルをさらにコンパクトに。あらゆる素材に対して高精度・高信頼性の加工を実現。1064, 532, 355 nm。最大 200μJ, 50W。最大繰返し周波数 8MHz。パルス幅 10ps。

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高出力 ハイパワーナノ秒レーザー

スペクトロニクス

Nd:YVO4結晶を使用。あらゆる材料への微細加工向け高性能Qスイッチ型パルスレーザーです。短いパルス幅でかつ高いビーム品質を保持、微細加工で高い性能を発揮します。

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AFMプローブ HQシリーズ

MikroMasch

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

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ビームアライメント装置一覧

Duma Optronics

長時間・長距離アライメントも高精度モニタ

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50W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-240シリーズ”

Canlas

50W, 1064nm出力(532 nm開発中)
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。

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動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC

Sympatec

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。(測定範囲 0.55~34000µm)

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非球面放物面鏡

Space Optics Research Labs

テレスコープ・ビームエキスパンダー・コリメータなどに最適な高い面精度

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スペックルパターンのスクランブラ “MMS-201”

General Photonics

スペックルパターンのランダム化技術により、マルチモードファイバの出力を均一化

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可視光-中赤外 CW用 レーザー・スペクトラム・アナライザ(LSA) “771シリーズ”

Bristol Instruments

CWレーザー測定対応。波長精度 最高±0.0001nm。1台で波長測定&スペクトル分析が可能。可視光(VIS)から中赤外(MIR)領域まで (375nm to 12μm) の波長域をカバー。マイケルソン干渉計ベース。パルスレーザー(>50kHz)の測定が可能。

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ファイバ光スイッチ/マルチプレクサ

piezosystem jena

ピエゾ駆動システムによる、高速・高効率・広帯域な光スイッチ。標準1~9チャンネル。ファイバコア径 50~500μm

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TW, PW Ti:SAレーザーポンプ用 Nd:YAGレーザー TITAN

Amplitude Technologies

数百TW(テラワット)からPW(ペタワット)級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J@532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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パルスコンプレッサモジュール COMPRESS

Amplitude Systemes

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030 nm, 515 nm

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高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・ラボ

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

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材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー

Photon Energy

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

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PMD/PDL/SOPエミュレーション装置

General Photonics

偏光モード分散(PMD)、偏光依存損失(PDL)、SOP(偏光状態)の計測・評価に

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パワーセンサ、エネルギーセンサ

Ophir

測定パワーμW~数十kW、エネルギーpJ~数十J、対応波長UV~IR、CW&パルス等様々な光源に対応

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簡易型レーザークリーニング装置

TRUMPF (旧SPI Lasers)

ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速&高品質 表面クリーニング。100W or 200W出力モデル

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50-120W RF励起セラミックコア CO2レーザー”Infinityシリーズ”

Iradion Laser

特許セラミックコアコンセプトによる長寿命、高安定性、高信頼性CO2レーザー。CW。10.2/10.6 μm。50~120W。

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偏波コントローラ / 偏波スクランブラ / 偏波トラッカ

General Photonics

各種システム・装置の偏波特性を多様化し、性能の最適化をサポートする多彩な偏波関連モジュール

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高速ラインスキャンエンジン LSE170/LSE300

Next Scan Technology

テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現

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4~11 μm ハイパワー CW or パルス中赤外レーザー”H-Model”

DRS Daylight Solutions

4~11 μmのほぼ全域をカバーする多彩な波長ラインナップ。省スペースで高出力のCW or パルス中赤外量子カスケードレーザー(QCL)

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INCA 多重分光近接ビーコン

DRS Daylight Solutions

VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。

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25-40 W RF励起セラミックコア CO2レーザー”Eternityシリーズ”

Iradion Laser

特許セラミックコアコンセプトとZ型折りたたみ共振器による、小型&高安定性CO2レーザー。CW。9.3,10.2,10.6 μm。25, 30 , 40 W。

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