製品情報

製品一覧

高出力200mJ ピコ秒/フェムト秒レーザー Magma

Amplitude Systemes

最大200 mJもの高パルスエネルギーと最大 400GWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs

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AFMプローブ SiN 窒化シリコンプローブ

MikroMasch
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4~11 μm モードホップフリーチューニング CW中赤外レーザー“CW-MHF”

DRS Daylight Solutions

中赤外領域をモードホップフリーチューニングできる高安定性外部共振型量子カスケードレーザー(QCL)

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4インチ対応 原子間力顕微鏡 Nano Observer AFM XL

CSInstruments

CSInstrumentsのフラグシップモデルであるNano Observer AFMの、4インチサンプル対応のモデルが発売されました。もともとCSInstrumentsの得意とする導電性AFM(Resiscope Ⅱ)、ケルビンプローブフォース顕微鏡法(KFM)、走査型マイクロ波インピーダンス顕微鏡法(sMIM)などの機能に加え、4インチまでのサンプルに対応したため、半導体サンプルの評価に応用しやすくなりました。

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コンパクト フェムト秒レーザー Goji

Amplitude Systemes

医療・産業分野の厳しい要件を満たす、高品質、超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

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LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)

SECOPTA

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

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フェムト秒レーザー加工装置 Aシリーズ

Oxford Lasers

高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。

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ペタワット出力フェムト秒レーザー PULSAR PW

Amplitude Technologies

世界最高クラスの1PW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高5Hz

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MicroSense 8800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

優れた温度特性と高分解能を実現
制御用途でのフィードバックセンサに最適

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偏波の計測装置(偏波消光比・偏波依存損失・挿入損失・偏波クロストーク)

General Photonics

偏波関連の計測装置 / 分析装置をラインナップ。

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ラインスキャナ型 非接触温度計“MP150シリーズ”

Fluke Process Instruments

512ポイントでの測定が可能な温度計測用高精度ラインスキャナ

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧

AMPHOS
[オススメ]

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

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FT-IRスキャナ“8035シリーズ”

Oriel (Newport Brand)

モジュラーユニットを選択・構成することによりアプリケーションに合わせて柔軟に構成可能

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LED光エンジン“SOLA II シリーズ”

Oriel (Newport Brand)

アークランプに代わる長寿命 白色光源。紫外・赤外領域の発光が少なく、生体サンプルに与える影響を抑制

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半導体レーザー(LD)用コントローラ

ILX Lightwave (Newport Brand)

ILX Lightwave (Newport Brand) は革新的で精度の高い装置、テストシステム、アクセサリを、充実のラインナップで提供しています。

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高速スキャン CW or パルス チューナブル中赤外レーザー“Hedgehog”

DRS Daylight Solutions

1,000 cm-1/sで100cm-1のチューニング。 中心波長< 4 から > 13 μmの量子カスケードレーザー(QCL)ベース 中赤外 (mid-IR) 波長可変レーザー。

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偏光スタビライザ “POS-202 & POS-203”

General Photonics

入力された偏光のSOPの高速変動を安定化して出力。2ポートまたは3ポート。

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レーザーダイオードモジュール“LDM-XT laserシリーズ”

LASOS

375~830nm の多彩な波長ラインナップと高品質ビーム。ファイバ出力または空間ビーム出力。最大出力300mW(空間)。スペクトル幅 <3nm (0.1pmまで可)

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SPMシリコンプローブ

AppNano

最高品質の低抵抗(0.01〜0.025Ω-cm) n型アンチモンドープ単結晶シリコン製。実績の高いシリコン技術と新しい微細加工プロセスにより、シャープなチップを具備した高品質モノリシックプローブを実現。ほとんどの市販AFM装置と互換。

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パルスファイバレーザー ”TruPulse”

TRUMPF (旧SPI Lasers)
[オススメ]

高い柔軟性&高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

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高出力 ファイバーレーザー “TruFiber “

TRUMPF (旧SPI Lasers)

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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HART 高アスペクト比チップ SPMプローブ

AppNano

高アスペクト比チップ SPMプローブ。スパイク高さ 1, 2, 4, 6µm。0°, 傾き角度補正 3°, 12°。

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HeNeレーザー“LGKシリーズ”

LASOS

波長 632.8, 543.5, 594 nm。出力 0.5~20 mW。システム・装置への組み込みに最適。国内外を問わず数多くの納入実績あり。

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