製品情報

製品一覧

ピエゾ駆動ステージ

piezosystem jena

LDなど光学部品の精密ポジショニング及びスキャニング用途に適した、安定性に優れたピエゾ駆動の高精度ステージ。X, Z, XY, XYZ, 5軸, 回転。可動距離 最高1500μm

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溶接ロボットノイズ対策 インクリメンタル・ロータリーエンコーダ MR341

Micronor

溶接ロボットのノイズ対策、パンタグラフのモニタリングなどに最適。電磁波や電場、磁場など、外部からの電磁的な干渉を受けずに精密位置検出。本質安全防爆。

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SLED/チューナブルレーザー/波長掃引レーザー 【General Photonics】

General Photonics

OCT、センシング、WDMに好適な各種光源装置をラインナップ:SLD光源、チューナブルレーザ、高速波長掃引レーザ

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乾式分散器(動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC用)

乾式分散器(動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC用)

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ツインエアー方式高精細ディスペンサ Twin-airⓇ

エンジニアリング・システム

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。エンジニアリングシステム社独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し

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パンタグラフの振動解析に 光ファイバ式加速度計システム MR660

Micronor

MR660 多軸加速度センサは、高電圧など危険な環境での振動や動きを測定することが可能な、光ファイバ式のシステムです。代表的なアプリケーションには、パンタグラフ監視、風力タービンブレード、MRI、変圧器、発電機、鉱業、石油・ガスなどがあります。

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OEM向け固体レーザー増幅器“neoVAN”

neoLASE

小型・高い柔軟性・高い安定性のアンプユニット。簡単操作でエネルギー及びパワー増幅。出力パワー 5~100 W。パルスエネルギー 最大 5mJ。CW ~ ピコ秒パルス。利得 最大40dB。

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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ピエゾコントローラ/アンプ

piezosystem jena

ピエゾ製品の分解能と精度を極限まで高める、高性能コントローラ及びアンプ。用途に応じて最適な製品を選択可能

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本質安全防爆 雷免疫 光ファイバ式 Eストップ MR387

Micronor

MR387シリーズ Eストップは、光ファイバを使用した完全にパッシブなEストップです。爆発性雰囲気、長距離、雷免疫、RFI、EMI が要求される場所に最適です。最大10km 離れた場所でも使用可能です。

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レーザー光用遮光カーテン

山本光学

高い表面精度と可視光透過率で優れた視認性

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高解像度ダイアモンド・AFMプローブ(ダイヤモンドカンチレバー)

CSInstruments

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ(ダイヤモンドAFMカンチレバー)

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レーザークリーニング装置

[オススメ]

100W程度の中出力タイプから最大1600Wの高出力まで、複数のモデルをラインナップ。目的に応じて最適なソリューションをご提案します。

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高速ラインスキャンエンジン“LSE170/LSE300”

Next Scan Technology

テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現

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NanoTest Xtreme 高温対応ナノインデンター

Micro Materials

-100~1000℃の温度範囲で薄膜の機械特性(硬度、ヤング率等)を測定できる唯一の装置

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NKT Photonics社 スーパーコンティニューム光源 SuperKシリーズ

NKT Photonics

使い易いスーパーコンティニューム光源。400~2400nm の波長をカバーするシングルモード出力。可視光から近赤外・中赤外までの広い波長域をカバー。単一周波数光源に匹敵する良質なビーム品質と高輝度。

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Core シリーズ 機械物性試験装置

Micro Materials

ナノインデンテーション試験、マイクロインデンテーション試験、ナノスクラッチ試験、マイクロスクラッチ試験、ナノインパクト試験機能がそれぞれ独立したコンパクトな機械特性測定装置

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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超音波減衰式 粒度分布測定装置 OPUS

Sympatec

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。(測定粒子サイズ 1~3000 µm)

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多機能 偏波コントローラ “MPC-201 & MPC-202” 【General Photonics】

General Photonics

独自の偏光コントロール・アルゴリズムを搭載した高性能偏光コントローラで多彩なコントロール機能を獲得。種々のSOPスクランブリングやSOP変調が可能。コヒーレント・レシーバ性能評価に最適。

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スペックルパターンのスクランブラ “MMS-201” 【General Photonics】

General Photonics

スペックルパターンのランダム化技術により、マルチモードファイバの出力を均一化

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動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX

Sympatec

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)

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特注 直接接合ミラー“XTAL CUSTOM”

CMS (Crystalline Mirror Solutions)

直接接合コンポーネントの完全カスタマイズ・サービス

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AO Qスイッチ(音響光学Qスイッチ)

Isomet

音響光学デバイスによる短パルスレーザー発振用Qスイッチデバイス。様々な結晶素材で多様なアプリケーションに対応

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