製品情報

AR導光板グレーティングの品質を総合的に評価できる高精度な回折計システムです。完全自動化システムで、回折格子のピッチと方向を測定し、ピコメートルおよび秒角スケールの高い精度で、グレーティング構造の欠陥を検出できます。種類や基板に関係なくあらゆるグレーティングサンプルを測定でき、グレーティング構造の均一性を広い領域にわたって評価できます。

ナノ構造の幾何学的パラメータの変位や光学特性の変化を、製造中に非接触かつ非破壊で判定します。フォトニクス、半導体、量子技術のためのグレーティングや薄膜の品質検査に好適です。

AR導光板の画像品質テストを自動で行えます。あらゆるAR導光板の画像品質を、タイプや構成に関係なく、確実かつ自動で測定でき、導光板の設計や製造における重要なフィードバックを提供します。プロトタイプ製造や少量生産に最適なR&D向けモデルです。

He-Neレーザーの電源装置は、長寿命、低ノイズ、OEM組込みにも適した設計になっています。遠隔操作も対応しています。最新のマイクロコントローラーによる制御で様々なレーザーモデルに対応いたします。

レーザー波長計872シリーズ：極細分解能で可視・近赤外域を網羅、量子コンピュータや原子冷却にも最適独自のフィゾー・エタロン技術で200kHzまでの測定分解能を実現したレーザー波長計872シリーズは、可視域から近赤外域までの幅広い波長に対応し、レーザー周波数安定化に最適です。量子コンピュータや原子冷却など、高精度な波長測定が求められる研究開発にご活用いただけます。最大8台までのレーザー接続と安定化を可能にするマルチレーザーPIDコントローラーや、ファイバーオプティクススイッチもアクセサリでご用意しております。

NanoViewラージスキャナシリーズは4～12インチのサンプルを分割することなく直接観察が可能。表面粗さ、粒子サイズ、ステップ高さなどの3次元表面形状の画像が取得可能な最も直感的で高速かつ費用対効果に優れた産業用AFMです。また自動ポジショニングのための座標の設定も可能で、製品開発と品質管理にとって最適なツールをなっています。

ARグラス用導光板の製造環境向けに開発された、高速で使いやすい画像品質検査システムです。AR導光板製造の全工程にわたって、一貫した品質管理を実現し、AR導光板の大量生産における高いスループットと歩留まりが得られます。自動合否判定やモーションコントロールなど、簡単操作でコスト削減する一方、ユーザーに合わせた高度な解析を可能にするAPIと高い拡張性を提供します。製造ラインと試作ラインの両方に好適です。

高品質かつ高精度なタイムベースと低ジッタ・モードを持つデジタルサンプリングオシロスコープです。超低ジッター性能を実現。コスト効率が高く、スケーラブルで高い拡張性を備えています。高精度な測定を同時に実行が可能で、テストのスループットを最適化し、テスト全体のコストを削減できます。コンパクト設計、リモートコントロールとAPIで装置に簡単に組込んでいただけます。

1200– 2300 nm（拡張短波赤外 ）に対応、ハイパースペクトルカメラHERA Extended SWIRは優れた空間スペクトル分解能と、低い照度の下でも高感度を実現するフーリエ変換 (FT) 検出技術を採用。分解能（636x508）TE付き拡張InGaAs を搭載により高精細を実現。1㎝クリアアパーチャ（開口）で優れた光透過率を備えたコンパクトかつ頑強なカメラです。

900 – 1700 nm （短波赤外）に対応のハイパースペクトルカメラ　HERA SWIRは優れた空間スペクトル分解能と低い照度の下でも高感度を実現するフーリエ変換 (FT) 検出技術を採用。冷却InGaAs (640x512)、14ビットセンサーを搭載し高精細を実現。1㎝クリアアパーチャ（開口）で優れた光透過率を備えたコンパクトかつ頑強なカメラです。

400 - 1000 nm（可視光 - 近赤外）に対応するハイパースペクトルカメラ　HERAは。フーリエ変換 (FT) 検出の技術を基に卓越した空間スペクトル分解能と低照度下での優れた感度を実現。CMOSセンサー1280 x 1024を搭載。コンパクトかつ頑強な設計で、1cｍ クリアアパーチャ（開口）で卓越した光透過率を備えたカメラです。

8インチ（200mm）ウエハをそのままサンプルステージに乗せてAFM-IR測定を実施できる大型サンプル対応モデルです。8インチウエハだけでなく、152mmのフォトマスクサンプルにも対応します。高空間分解能のケミカルイメージングのほか、ナノスケールIR分光により、ナノ異物分析にも対応します。IRライブラリにも対応します。

量子コンピュータ、量子センサ、量子通信技術など、急速に成長する量子テクノロジーに、レーザー・光技術が大きな役割を担っています。日本レーザーが取り扱っている、最先端の量子関連製品をまとめてご紹介します。各メーカーとも世界の量子技術に直接的・間接的に関わり、その発展を支えているのはもちろん、日本国内の量子研究分野にも多数導入されています。研究の目的や要件を日本レーザーへご相談ください。経験豊富な量子関連の専門のチームが、個別の製品だけでなく、包括的なソリューションをご提案いたします。

光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器　半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。

ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。

量子アプリケーションのために設計された決定論的に単一光子を生成する固体の単一光子源です。量子プロジェクトに特化した Sparrow Quantum社の専門チームによって設計、開発、生産された高品質フォトニック コンポーネントです。量子通信やコンピューティングから、量子シミュレーション、量子センシング、量子計測に至る将来の量子技術の構成要素となることが期待されています。確率的な単一光子源とは異なり、決定論的量子エミッタは、優れた量子フォトニック機能を備えた高いオンデマンド単一光子レートを提供できます。 量子情報のキャリアとしての単一光子生成に最適です。

融着部保護用にUV硬化樹脂を塗布・硬化させ、被覆を再構築する装置。シリコン樹脂モールド使用。簡単操作で精密な復元を実現します。

完全自動プロセスでアクリルコーティングを除去。ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去するファイバストリッパ。ファイバを最大20 Nまで引っ張ることができる高荷重引張強度試験機が組み込まれています。ファイバ前処理機は、ファイバ融着前の作業を全自動で行います。

適応クラッド径最大: 2000 µm、ファイバコーティング: 250 - 1500 µm、3D画像生成対応モデルのご用意もございます。

クラッド径80～1000μmの範囲で光ファイバの高精度切断に対応。大量生産環境において安定した結果と高い生産性を提供します。