リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

拡張ピクセル分解能を備えた2位置または4位置のアクチュエータによるビームシフティングデバイス です。標準開口径 9～33mm。3Dプリンタ、カメラ、計測、光結合などでご活用いただけます。

1260nmから1650nmの広い波長域をカバーし、低挿入損失、低背面反射を可能にする高速自動偏光制御とスクランブリングを実現しています。

ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速＆高品質 表面クリーニング。100W or 200W出力モデル

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 平均出力 >100 mW /1.3 W。 幅広いゲイン波長域、低ノイズ、優れた出力安定性を有します。

小型・高品質・安価。青・紫・紫外の各種レーザーの代替に最適。375, 405, 445, 473nm

空冷の 1064nm 20W出力 CWレーザー。低ノイズ、狭線幅、高安定性の「ザ・プレミアム」ファイバレーザー。

最先端の量子カスケードレーザー（QCL）技術ベースの次世代ハイパワー・テラヘルツ光源。最大光出力 7mW。マルチ周波数オプション 最高6周波数。極低温冷却不要の永久真空パッケージ。

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

高速・高分解能・高精度な偏向器
深紫外、紫外、可視から近赤外域まで対応

375～830nm の多彩な波長ラインナップと高品質ビーム。ファイバ出力または空間ビーム出力。最大出力300mW（空間）。スペクトル幅 <3nm (0.1pmまで可)

単一周波数固体レーザーシステムのEXCITEシリーズは、UV領域のアプリケーションに対応します。ウエハ検査、分光器の校正、干渉計のアプリケーションに使用いただけます。理論的なフーリエ限界に近い値である50MHz以下のスペクトル帯域幅を実現しています。

超小型ファイバ分光器。手のひらサイズで低価格・高コストパフォーマンス。高性能、高感度の新シリーズ発売（YSM-8103シリーズ / YSM-8104シリーズ / YSM-8105シリーズ）

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

偏光スプリッタとフォトディテクタ、回路をコンパクトなボディに組み込んだ偏光フォトディテクタです。高い消光比と信頼性を備えたモデルです。

最大パルスエネルギー 50 J @ 1064 nm, 最大繰り返し周波数 50 Hz, パルス幅 8 – 20 ns(オプション)の高エネルギー Nd:YAGレーザー。科学研究や、OEM産業用途向けアプリケーションなどに最適です。

M3-LSリニアステージは、コントローラを内蔵した超小型高精度リニアステージです。小型のOEM機器にすぐに組込みが可能。外部ボードも不要です。駆動機器もコンパクトな筐体に内蔵され一体化されています。超小型ながら高精度・安定性・使い易さを兼ね備えています。開発キットもご用意いたしております。

OEM向けレーザー。繰り返し周波数 10Hz, パルス幅 ~ 300 ps, 高エネルギー出力：50J @ 755nm、90J @ 1064nm。

医療・産業分野の厳しい要件を満たす高品質・超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境（超高真空、高磁場）に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】