Quantum X shapeは、2光子重合（2PP）をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

中赤外 MIR 2.8～4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適

OCTやセンシングのSN比を改善するためには、高性能なバランスフォトレシーバが必要です。BPD-003は最大300MHzまでの帯域に対応します。OEM用に特別設計された低価格、小型、高性能な製品です。

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

長時間・長距離アライメントも高精度モニタ

QスイッチDPSSレーザー　ナノ秒の短パルス　5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。

最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ：1μm ～15,600μm。速度：～1,000m/s@100μm

Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。

3D形状や表面粗さを測定、解析するための直感的で使いやすいソフトウェアパッケージを装置とセットで提供しています。

ミニマル規格^※に準拠。コンパクトで可搬型ながら高解像度パターン観察を実現した、測長機能付SEM
（※「ミニマル」は独立行政法人産業技術総合研究所の登録商標です。）

ピコ秒パルスダイオードレーザードライバー。PicoQuantのレーザー、LEDヘッドで繰り返し周波数率とパルスエネルギーを制御可能。 コンピューター制御のシングルチャネル、またはマルチチャネルユニットが利用可能。 独自の5年間限定保証。

独自の偏光コントロール・アルゴリズムを搭載した高性能偏光コントローラで多彩なコントロール機能を獲得。種々のSOPスクランブリングやSOP変調が可能。コヒーレント・レシーバ性能評価に最適。

6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と高精度を提供する6軸自由度ステージ。

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒～ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

M3-LSリニアステージは、コントローラを内蔵した超小型高精度リニアステージです。小型のOEM機器にすぐに組込みが可能。外部ボードも不要です。駆動機器もコンパクトな筐体に内蔵され一体化されています。超小型ながら高精度・安定性・使い易さを兼ね備えています。開発キットもご用意いたしております。

レーザービームスキャン（ランダム位置、ラインスキャン、連続スポットディフレクション）に最適なRF周波数制御ディフレクタ。高効率。スキャンレート　最高 250 kHz

直接駆動超精密ステージからピエゾモータ直進ステージまで、200モデル以上を展開

クラッド径: 125 – 1200 µm、ファイバコーティング: 250 – 1500 µm、3D画像生成対応モデルのご用意もございます。

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

長寿命プローブ：- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11

最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール（355～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

カスタム顕微鏡対物レンズを設計の経験からOEMを含めた最適な対物レンズを提供します。高NA開口部、広視野角、長作動距離、特殊材料制約に対応。多光子顕微鏡、共焦点顕微鏡、超解像顕微鏡、液浸顕微鏡、
STED顕微鏡、生細胞蛍光顕微鏡、深部組織イメージング、超解像顕微鏡、ボーズ=アインシュタイン凝集実験などで活用されています。

光源や光学部品の PMD, PDL 等 偏光特性を測定。光磁気結晶を用いた特許デザインで高い精度と再現性を達成