シリーズ最高分解能・高速応答モデル
高速変位を高精度で測定

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370～920 nm

光ファイバーや光学素子からの戻り光を除去し、レーザー本体を保護。350～1135nm

MR328シリーズ ZapFree® 光ファイバー式インクリメンタルセンサは、磁気共鳴イメージング (MRI)、ナノ磁気検出、EMC テストラボ、および電磁界に対する耐性と透明性が必要とされるアプリケーション向けに設計されました。完全にパッシブで、非金属のインクリメンタルロータリーエンコーダです。センサは全てパッシブな光ファイバ式で、電気を使用しません。標準的な二重62.5/125マルチモード光ファイバリンクを介してリモートコントローラに接続します。

本ページからMicroSense LLCの静電容量センサ全カタログをまとめてダウンロードできます。

最大8チャンネルのデスクトップ型モジュール。電気的分解能 <12ps rms。測定時間幅 65ns～2.19s。カウントレート 最大12.5M count/s。

非接触・非破壊で表面の微細な3D形状、および粗さを測定・解析することができる形状計測装置です。

50W, 1064nm出力（532 nm開発中）
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。

ピコ秒（最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し）＆CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375～2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W。

粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒～ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

Lumina Instruments社のAT1は、ガラス基板、半導体基板、FPD、フォトマスク、ハードディスク等の基板の欠陥を可視化する高速欠陥検査イメージング装置です。他に類を見ない水準の測定速度とサブナノメートルオーダーの感度が特徴です。

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

レーザー駆動機能と温度コントロール機能を一つにした低ノイズ・高安定性QCLコントローラ

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

光パラメトリック発振器（OPO）での 波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の波長領域と広範囲で調整可能。消耗品の補充コスト無。コンピュータでの制御で自動波長調整。

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。（測定粒子サイズ 1～3000 µm）

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

ピコ秒及びフェムト秒の高速パルスの間引き用に開発

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

アウトガス極少で超高真空領域までの立ち上げが短時間で可。熱歪みのない窓材で、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

空冷の 1064nm 20W出力 CWレーザー。低ノイズ、狭線幅、高安定性の「ザ・プレミアム」ファイバレーザー。

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

高品質 TEM₀₀ ビーム, スペクトル幅 <125MHz フーリエ限界の単一周波数全固体レーザー