シンクロトロン放射によるイメージング用のカスタム対物レンズ。トモグラフィー対応。実用性を高める光学リレー。対物レンズ0.5倍、0.8倍、150㎜　400㎜に対応。経験と知識から光学設計、エンジニアリング、製造、テストと一貫したサービスをご提供します。

Daylight Solutions社のパルス、CW＆パルス、CW-MHF 中赤外レーザー用の多機能コントローラ。業界トップクラスのノイズ性能を達成。

入力された偏光のSOPの高速変動を安定化して出力。2ポートまたは3ポート。

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光（コヒーレントまたはインコヒーレント光源）のスペクトルを測定できます。

690～950 nm, 1200～2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5～9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

ピコ秒パルスレーザー光源はレーザーダイオードベースまたはLEDベースのデバイスです。繰返し周波数は最大100MHzまでユーザーせ調整が可能です。 255nmから1990nmまでの離散波長をカバー。 最短パルス幅40ps。RGB3色ピコ秒レーザーをリリース（2021年11月）

世界最大コア径、広いモードエリア、ポンプ光が高効率、非線形を抑制。パッシブダブル/シングルクラッドファイバとの完璧な組み合わせ。

波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 平均出力 >100 mW /1.3 W。 幅広いゲイン波長域、低ノイズ、優れた出力安定性を有します。

蛍光寿命分光計。コンパクトモジュール方式　TCSPC,MCS（マルチチャンネルスケーリング）の双方データ取得可能。測定可能蛍光寿命約10psから数百ms。スペクトル範囲：255〜1550nm。完全自動化されたハードウェア制御。アプリケーションウィザード・スクリプト言語により多彩な機器に対応可能

波長 320, 349, 532, 640, 780 nm、狭線幅 (< 0.5 MHz)、非常に小さい強度ノイズ (< 0.1% RMS)、回折限界 TEM00 ビーム。 独自の光学アーキテクチャとハーメチックシールドパッケージにより、長期間にわたって非常に安定した動作と性能を保持します。要件の厳しい組み込み用途で高い堅牢性と耐久性を発揮します。また、高い精度、安定性、スペクトル純度が求められる、ラマン分光、干渉実験、ホログラフィ、量子技術開発など、高度な研究用途にも最適です。

1つの小型筐体に複数のレーザモジュール（355～1550 nm）を格納。2, 4, 6波長を高効率ファイバ出力。最大出力パワー1W。

光源や光学部品の PMD, PDL 等 偏光特性を測定。光磁気結晶を用いた特許デザインで高い精度と再現性を達成

光学顕微鏡を備えたAFMのプラットフォーム。高速走査かつ高分解能、原子力間顕微鏡によるイメージングを実現。空中や液体中での測定に対応。

OEM向けレーザー。繰り返し周波数 10Hz, パルス幅 ~ 300 ps, 高エネルギー出力：50J @ 755nm、90J @ 1064nm。

最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール（355～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

高出力波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の広範囲な波長領域で波長可変可能な光パラメトリック発振器（ OPO ）

電動チューナブルレンズ、手動チューナブルレンズ、ELM（電気式レンズモジュール）の3つの製品ランナップ。高速応答、堅牢性、高信頼性を備えレーザー加工から研究分野、3Dプリント等まで幅広いアプリケーションでご使用いただけます。

QスイッチDPSSレーザー　ナノ秒の短パルス　5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。（測定粒子サイズ 1～3000 µm）