製品情報

液体や固体の材料分析用途に最適な、CW発振、縦モードシングルのチューナブル半導体レーザーです。ユーザーのニーズに合わせたカスタム仕様でOEM製造いたします。中心波長の選択可能範囲 1500-3500 nm、波長可変域 約100-150 nm、出力パワー 1-5 mW、チューニング速度 100nm/ms（いずれも中心波長、環境温度などにより異なります）

高品質かつ高精度なタイムベースと低ジッタ・モードを持つデジタルサンプリングオシロスコープです。超低ジッター性能を実現。コスト効率が高く、スケーラブルで高い拡張性を備えています。高精度な測定を同時に実行が可能で、テストのスループットを最適化し、テスト全体のコストを削減できます。コンパクト設計、リモートコントロールとAPIで装置に簡単に組込んでいただけます。

1200– 2300 nm（拡張短波赤外 ）に対応、ハイパースペクトルカメラHERA Extended SWIRは優れた空間スペクトル分解能と、低い照度の下でも高感度を実現するフーリエ変換 (FT) 検出技術を採用。分解能（636x508）TE付き拡張InGaAs を搭載により高精細を実現。1㎝クリアアパーチャ（開口）で優れた光透過率を備えたコンパクトかつ頑強なカメラです。

900 – 1700 nm （短波赤外）に対応のハイパースペクトルカメラ　HERA SWIRは優れた空間スペクトル分解能と低い照度の下でも高感度を実現するフーリエ変換 (FT) 検出技術を採用。冷却InGaAs (640x512)、14ビットセンサーを搭載し高精細を実現。1㎝クリアアパーチャ（開口）で優れた光透過率を備えたコンパクトかつ頑強なカメラです。

400 - 1000 nm（可視光 - 近赤外）に対応するハイパースペクトルカメラ　HERAは。フーリエ変換 (FT) 検出の技術を基に卓越した空間スペクトル分解能と低照度下での優れた感度を実現。CMOSセンサー1280 x 1024を搭載。コンパクトかつ頑強な設計で、1cｍ クリアアパーチャ（開口）で卓越した光透過率を備えたカメラです。

波長375～1550nm。高出力レーザーを最大6つ搭載可能。マルチモードに対応。オプションにて切替用NDフィルターを内蔵。広視野レーザー照明にご使用いただけます。

8インチ（200mm）ウエハをそのままサンプルステージに乗せてAFM-IR測定を実施できる大型サンプル対応モデルです。8インチウエハだけでなく、152mmのフォトマスクサンプルにも対応します。高空間分解能のケミカルイメージングのほか、ナノスケールIR分光により、ナノ異物分析にも対応します。IRライブラリにも対応します。

波長 320, 349, 532, 640, 780 nm、狭線幅 (< 0.5 MHz)、非常に小さい強度ノイズ (< 0.1% RMS)、回折限界 TEM00 ビーム。 独自の光学アーキテクチャとハーメチックシールドパッケージにより、長期間にわたって非常に安定した動作と性能を保持します。要件の厳しい組み込み用途で高い堅牢性と耐久性を発揮します。また、高い精度、安定性、スペクトル純度が求められる、ラマン分光、干渉実験、ホログラフィ、量子技術開発など、高度な研究用途にも最適です。

ナノ秒レーザー Ivyは、ピークパワー ＞9 kW、 平均出力数ナノ秒のパルス幅を持つ業界初のオールインワンの中赤外レーザーです。

量子コンピュータ、量子センサ、量子通信技術など、急速に成長する量子テクノロジーに、レーザー・光技術が大きな役割を担っています。日本レーザーが取り扱っている、最先端の量子関連製品をまとめてご紹介します。各メーカーとも世界の量子技術に直接的・間接的に関わり、その発展を支えているのはもちろん、日本国内の量子研究分野にも多数導入されています。研究の目的や要件を日本レーザーへご相談ください。経験豊富な量子関連の専門のチームが、個別の製品だけでなく、包括的なソリューションをご提案いたします。

光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器　半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。

ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。

量子アプリケーションのために設計された決定論的に単一光子を生成する固体の単一光子源です。量子プロジェクトに特化した Sparrow Quantum社の専門チームによって設計、開発、生産された高品質フォトニック コンポーネントです。量子通信やコンピューティングから、量子シミュレーション、量子センシング、量子計測に至る将来の量子技術の構成要素となることが期待されています。確率的な単一光子源とは異なり、決定論的量子エミッタは、優れた量子フォトニック機能を備えた高いオンデマンド単一光子レートを提供できます。 量子情報のキャリアとしての単一光子生成に最適です。

融着部保護用にUV硬化樹脂を塗布・硬化させ、被覆を再構築する装置。シリコン樹脂モールド使用。簡単操作で精密な復元を実現します。

完全自動プロセスでアクリルコーティングを除去。ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去するファイバストリッパ。ファイバを最大20 Nまで引っ張ることができる高荷重引張強度試験機が組み込まれています。ファイバ前処理機は、ファイバ融着前の作業を全自動で行います。

適応クラッド径最大: 2000 µm、ファイバコーティング: 250 - 1500 µm、3D画像生成対応モデルのご用意もございます。

クラッド径80～1000μmの範囲で光ファイバの高精度切断に対応。大量生産環境において安定した結果と高い生産性を提供します。

世界最小クラスの波長可変レーザー。UV、 可視光 、近赤外 、中赤外の波長域に対応。堅牢な設計。お客様で設置可能なレーザーです。

光学コンポーネントの製造に最適なガラスファイバ融着加工機。ボールレンズ加工など、特殊用途に対応可能。コンタミなし、低メンテナンスで、プロセスガス、フィラメント、電極などの消耗品も不要です。

世界最大コア径、広いモードエリア、ポンプ光が高効率、非線形を抑制。パッシブダブル/シングルクラッドファイバとの完璧な組み合わせ。