M3-LSリニアステージは、コントローラを内蔵した超小型高精度リニアステージです。小型のOEM機器にすぐに組込みが可能。外部ボードも不要です。駆動機器もコンパクトな筐体に内蔵され一体化されています。超小型ながら高精度・安定性・使い易さを兼ね備えています。開発キットもご用意いたしております。

超小型温度センサーヘッド、冷却なしで120℃までの温度環境で使用可能。IP65準拠で工業用アプリ ケーションに最適

レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。

>50Hzのパルスレーザーが測定可能。QCLに最適。高い波長精度：±0.08 nm @ 8μm､高い光除去比：20 dB、1〜12μmの波長域。CWレーザーも測定可能。

偏波状態の各種制御・変調で、システム・装置の偏波依存特性を最適化

最大５つのラインを組合せ1本のファイバーとして結合が可能です。シンプルモード、偏光保持モード、マルチモードなど複数のタイプの伝送モードが使用可能。様々な出力コネクタに対応

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）

高帯域、広帯域の光-電気変換器を様々な構成でご提供できます。1チャンネルまたは2チャンネル、ACまたはDCカップリング、さまざまな変換利得と動作波長範囲から選択いただけます。

堅牢で信頼性の高い汎用なソリューション。時間とコストの節約に。

BeamWatch™ ビームウォッチ 非接触・集光スポット径・ビーム位置計測ビームモニタリングシステム。測定パワー範囲 400W – 100kW。波長 980-1080 nm

噴霧映像をから広がり角度や拡散パターンを解析

波長244～4500nmで光強度＆位相を変調。高安定性・低電圧・高速

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

平均出力18W、1342nmの高出力LD励起固体レーザー。24時間365日の連続稼働の産業用途に最適

50kW/cm²超のパワー密度でも歪みのない正確なビームサンプリングを実現

偏光モード分散（PMD）、偏光依存損失（PDL）、SOP（偏光状態）の計測・評価に

Optotuneでは革新的な光制御コンポーネントを提供しています：フォーカスチューナブルレンズ（焦点可変レンズ）、高速ステアリングミラー、レーザースペックルリデューサー＆ビームホモジナイザ、ビームシフトデバイス。

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。

日常業務用、教育用のコンパクトな卓上分光計から、数ピコ秒単位で測定可能な高性能の分光計まで多彩な蛍光分光計をラインナップ。サンプルは液体（キュベット）、固体、ウェファーに対応。　ソフトウェアでデータフィッティング、減衰分析に対応。

Daylight Solutions社のパルス、CW＆パルス、CW-MHF 中赤外レーザー用の多機能コントローラ。業界トップクラスのノイズ性能を達成。

レーザー加工システム制御用のオールインワン・ソリューション。パラメータを入力してクリックするだけの、特別なスキルがいらない簡易操作ソフトウェア。

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御

偏光依存損失 (PDL), 挿入損失 (IL), デバイスの光パワーをわずか30ミリ秒で同時測定。低/高の両PDL値を測定可能。