レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

シャープなシリコンプローブでAFM探針の試料表面接触時に直接視覚化可能。高い再現性、堅牢性、シャープさをもつナノ加工 高ドープ単結晶シリコンで高解像度イメージングを実現

AFM 超高感度電流増幅器

マルチライン／シングルライン出力。高安定性、良好なビーム品質、長寿命。454.5～528.7nm。1～7 W。SHG出力可

直接駆動超精密ステージからピエゾモータ直進ステージまで、200モデル以上を展開

10¹³もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。

抜群の柔軟性と使い易さ。5年間保証の安心品質。繰り返し周波数 1 Hz to 100 MHz。バーストパターン、パルス＆CWモードを設定可能。

高繰り返しパルスとCWの両レーザー対応。波長精度 最高±0.0001nm。1台で波長測定＆スペクトル分析が可能。可視光(VIS)から中赤外(MIR)領域まで (375nm to 12μm) の波長域をカバー。マイケルソン干渉計ベース。

ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。

高性能TCSPCモジュール搭載のフルオートマチックの高性能蛍光寿命スペクトロメータ。
蛍光減衰をピコ秒分解能で測定。定常状態の蛍光異方性やりん光の測定も可能。

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。２波長ラインナップ（1064, 532 nm）。最高3W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

高ビーム品質（ M²<1.2 ）のピコ秒レーザー。高精細・高品質の加工に最適。独自ハイブリッド方式で軽量かつ低価格。

シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御

高ピークパワー　750μJ @10kHz(1064nm), 300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

偏波関連の計測装置 / 分析装置をラインナップ。

ファイバーコイルは長さ50m〜5km、直径15mm〜120mmに対応します。
コイルは独自の含浸接着剤で構成され、信頼性を高められています。

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。
FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光（コヒーレントまたはインコヒーレント光源）のスペクトルを測定できます。

Culpeo® QCL-IR液体分析器　バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO₄レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

OCTや産業用組み込みに最適な高速かつクリーンな波長掃引光源

70億パルス以上連続発振。コロナ予備電離光源と固体スイッチパルス発振器を
一体化した高安定性＆高信頼性CO2レーザー。9.2～10.8 μm。最大7J, 100W。10-500Hz, 50～100nsパルス。

最高の感度・精度・空間分解能・速度
測定パフォーマンスに優れた非常に小型で柔軟性の高い製品です。

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー＆DPSSレーザー。375～1444nm。最大出力2500mW。