パワフルで精密なピコ秒ダイオードレーザードライバー、5年間保証の安心品質。繰り返し周波数 1 Hz ～ 100 MHz。バーストパターン、パルス＆CWモードを設定可能

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

900 – 1700 nm （短波赤外）に対応のハイパースペクトルカメラ　HERA SWIRは優れた空間スペクトル分解能と低い照度の下でも高感度を実現するフーリエ変換 (FT) 検出技術を採用。冷却InGaAs (640×512)、14ビットセンサーを搭載し高精細を実現。1㎝クリアアパーチャ（開口）で優れた光透過率を備えたコンパクトかつ頑強なカメラです。

中赤外スーパーコンティニューム光源の励起に最適。中心波長 1900～2000 nm、繰り返し周波数 kHz～MHz、パルスエネルギー10 μJにて最大出力10 W

直接駆動の直読式高速回転型から、多用途・低価格タイプまで、100モデル以上を展開

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

光子計数検出器としてPMT（光電子増倍管）、HPD（ハイブリット光電子増倍管）、SPAD（単一光子アバランシェダイオード）にてフォトンカウンティングが可能です。紫外から近赤外の範囲をカバー。

微細加工向けフェムト秒ファイバレーザー。きわめて高い堅牢性と優れた安定性。クリーンな超短パルスにより非熱加工を実現。波長1030nm/ 515nm、平均パワー10W / 20W 、可変パルス幅　400 fs – 4 ps /400 fs – 2 ps、

テラヘルツ分光により、封書や小包の中に隠された有害物質を正確に、わずか数秒以内で同定

FMCW（周波数変調連続波）レーダートランシーバーは、最先端のショットキーダイオード技術に基づくサブTHzデバイスです。最大100 dBのダイナミックレンジ、高い測定レート（7.6 kHz）、優れた透過性と高い解像度を持ち、様々な用途で非接触非破壊検査、密度深度測定、3Dイメージングなど様々なセンシングツールとしてお使いいただけます。

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

S neoxは多機能かつ高性能な機能をもつ組込み可能な3D測定センサです。共焦点・白色干渉計・焦点移動による3D表面形状測定加えて、膜厚測定ができ、幅広いアプリケーションに対応。自動3D測定が可能。

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析等が可能です。

非接触・非破壊で表面の微細形状、面粗度、粗さ、薄膜計測などの3D形状を測定することができる装置組込み用の顕微鏡ユニット 。白色干渉計および3Dレーザー顕微鏡に代表される共焦点顕微鏡技術を搭載。

高速・高分解能・高精度な偏向器
深紫外、紫外、可視から近赤外域まで対応

365nm～660nmの波長＋白色のLEDモジュール。LEDチップのTEC温度制御による高い波長および出力安定性。マルチモードファイバーとリキッドライトガイドのカップリング対応可能。アナログ/デジタル変調最大500kH、スイッチング時間＜2μs、プログマブルPWM周波数（最大200kHz）発生器を内蔵。SYNC出力。

偏波状態の各種制御・変調で、システム・装置の偏波依存特性を最適化

最大５つのラインを組合せ1本のファイバーとして結合が可能です。シンプルモード、偏光保持モード、マルチモードなど複数のタイプの伝送モードが使用可能。様々な出力コネクタに対応

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

Spacetek Technology社の IonTamer™ は飛行時間型の質量分析計 / 残留ガス分析器 (TOF-RGA) です。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニターします。世界最高性能のRGAであるIonTamer™は、これまで実験室用装置でしか得られなかった性能を、コンパクトで扱いやすく、組み込み可能にしました。半導体製造、OLEDディスプレイ製造、光学部品、ソーラーパネル製造、真空コーティングプロセス（CVD、PVD、ALD）、真空炉、冶金、超高真空などでの研究、過酷な環境下での用途に対応します。

高真空・超高真空対応プローブ。低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能。

種々のコンポーネントやアプリケーションに柔軟に対応できる製品を多数ラインナップ

高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です。光トランシーバーや光学電子部品での設計、特性評価、製造用のテストで使用いただけます。