アプリケーション

アプリケーション 一覧

超小型OPOシステム“OPOLETTEシリーズ”

Opotek

波長範囲410~3450nm, UVモジュール装着で210~410nmもカバー。繰返し 20 Hz。パルス幅 7ns。

Detail

動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX

Sympatec

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)

Detail

低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-100シリーズ”

Canlas

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ(1064, 532 nm)。最高3W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

Detail

50W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-240シリーズ”

Canlas

50W, 1064nm出力(532 nm開発中)<br />
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。

Detail

HART 高アスペクト比チップ SPMプローブ

AppNano

<p>高アスペクト比チップ SPMプローブ。スパイク高さ 1, 2, 4, 6µm。0°, 傾き角度補正 3°, 12°。</p>

Detail

高出力レーザー用非接触ビームプロファイラ“BeamWatch”

Ophir

BeamWatch™ ビームウォッチ 非接触・集光スポット径・ビーム位置計測ビームモニタリングシステム。測定パワー範囲 400W - 100kW。波長 980-1080 nm

Detail

高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

<p>高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11...

Detail

最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

<p>革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs - 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40M...

Detail

インプリント・モールド

日本レーザー

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

Detail

高出力ファイバーレーザー“redPOWER QUBE”

SPI Lasers

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現

Detail

極低温対応ナノ位置決めステージ

attocube systems

極低温環境対応の非磁性ピエゾ駆動ナノポジショナー

Detail

MicroSense 8800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

優れた温度特性と高分解能を実現
制御用途でのフィードバックセンサに最適

Detail

溶接の可視化装置 VisiWeld

Oxford Lasers

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

Detail

クロスコリレータ SEQUOIA

Amplitude Technologies

市販品で最高のダイナミックレンジを持つ3次フェムト秒クロスコリレーター。高ピークパワー・フェムト秒レーザーシステムのレーザーパルス形状の厳密な制御に理想的。

Detail

大気・真空対応ナノ位置決めステージ

attocube systems

ピエゾ駆動ナノポジショナ―。大気圧から超高真空(UHV)、極低温に対応できる多彩なラインナップ。

Detail

AFMコントローラー “Galaxy Dual”

CSInstruments

<p>Pico STM / 5100 / 5500 / Mulimodeに対応する、AFM / STM用コントローラーです。</p>

Detail

パルスコンプレッサモジュール COMPRESS

Amplitude Systemes

<p>ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応...

Detail

ZentriForm(ゼントリフォーム) マイクロ遠心成型機

3T analytik

<p>高品質なマイクロ構造を高速かつ安定的に作製できます。</p>

Detail

2μm CW ファイバレーザー“uniWAVE2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2100 nm からご指定, バンド幅 0.8 nm (代表値), 平均出力パワー>10 mW。高安定性・簡便操作・低メンテナンス

Detail

パルスファイバーレーザー redENERGY G4

SPI Lasers

高い柔軟性&高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

Detail

非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”

Varioscale

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1~500μm)測定用。小型・高速・高精度

Detail

DUVアルゴンレーザー/DUVクリプトンレーザー“Lexel QUANTUM SHG”

Cambridge Lasers Laboratories (Lexel Laser)

高安定性で使い易い周波数ダブリング・イオンレーザーシステム。マルチライン 457.9~528.7nm(Ar), 568.2~676.4nm(Kr)+BBO結晶ベースSHGによるDUV出力。

Detail

MicroSense 5800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

高分解能・高速応答
動的変位測定のスタンダードモデル

Detail

Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-200シリーズ”

Canlas

コンパクト・高い安定性・高繰返し。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高12W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

Detail