インプリント・モールド
3Dから高アスぺクト比形状まで対応
高速アナログ変調 超小型CWレーザー “LuxX.HSA”
超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー 紫外375~赤外1550 nm 範囲 最大出力300 mW
LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)
生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適
PIV CWレーザー(流れの可視化レーザー)“DPSS Green Laser”
流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー
フェムト秒レーザー加工装置 Aシリーズ
高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。
NKT Photonics社 サイエンス向けピコ秒/フェムト秒レーザー
最大出力 10 W。繰返し周波数 固定または可変。シングルショット/バーストモードなど、用途に応じて最適なウルトラファーストレーザーを提案します。信頼性の高い高品質レーザーで、カスタマイズも対応。最先端の研究用途に最適な製品を提案いたします。
オプトジェネティクス用多波長レーザー光源“LightHUB Optogenetics”
オプトジェネティクス(光遺伝学)用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW@561nm。変調機能付き。
2μm 広帯域チューナブルレーザー “SuperTune-2000”
発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適
最大40μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji
平均出力パワー 最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ可能、波長域257nmから最大4000nmまでの範囲で選択可能、繰返し周波数 2 MHz
1000W出力 ピコ秒レーザー Amphos5000シリーズ
ピコ秒パルス、キロワット出力。OPCPAポンピングやレーザー加工に好適です。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。
ビームプロファイラ ( カメラ式 & スリット式 )
UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器
PIV 非コヒーレント・マルチ・パルス・レーザー“FireFly300W”
境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。
AFM-IR 装置 Vista 75, IR-PiFM / PiF-IR
光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器 半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。
AFMプローブ SiN 窒化シリコンプローブ
シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
受託粒度分布測定・各種サービス
粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。
最大250μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangerine
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。
テラヘルツ検出器(高速・高感度パイロセンサ)TeraPyro
コンパクトで使いやすい高速・高感度テラヘルツセンサー。パイロエレクリック技術ベース。スペクトル範囲 0.1 – 30 THz。高速応答 ~2.5kHz。高感度(~2 kV/W)、低ノイズ。 パルス(QCW)操作。検出部サイズ 5mm径。
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
PDT・PIT・PDD ラボ実験用レーザー照射システム “BrixXLAB”
PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm~ 1550nmに対応。
フォトニック集積回路向け マルチチャンネルソース測定システム SMU
フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器(SMU)です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。
attocube ナノ位置決めステージ概要
高精度ピエゾ駆動モータおよび位置決め製品。超高真空・非磁性対応。ナノオーダーの高精度アライメント用途など産業分野での高精度マシニングから、要件の厳しい最先端の研究アプリケーションにも好適。
溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo
従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。
レーザー光源内蔵 ラマン分光計 “YOA-8401シリーズ”
狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計 励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。