高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

押圧試験、硬度試験、ヤング率評価等、薄膜の機械的特性を高分解能で評価。850℃までの高温に対応

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒～ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

MikroMasch®はAFMプローブ 校正用構造体・測定用標準基板を提供するブルガリアのナノテク企業です。同社は、定番のプローブ/カンチレバー等を低価格・短納期でご提供いたします。

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）

高い柔軟性＆高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

非接触・非破壊で表面の微細形状、粗さ、うねりなどの3D形状を測定することができる組込センサーです。

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ（ダイヤモンドAFMカンチレバー）

MR380-0-1コントローラは、MR380 シリーズ ZapFREE® 光ファイバシグナリング製品を使用するOEMユーザ向けです。

本ページからMicroSense LLCの静電容量センサ全カタログをまとめてダウンロードできます。

高ピークパワー　750μJ @10kHz(1064nm), 300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

優れた温度特性と高分解能を実現
制御用途でのフィードバックセンサに最適

広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690～1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30～50 ns、繰返し周波数１～3 kHz または １～10 kHz。

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質に対応

ナノインデンテーション、フォーススペクトロスコピー、機能化研究、トレンチ深さ計測など。アプリケーションに最適な複数の種類のSPMプローブをラインナップ。特注についてもご相談ください。

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

高スループットの産業用途システム。サーマルプロセス用途に最適。波長 808nm、出力パワー 100～400W

UV～ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

高品質なマイクロ構造を高速かつ安定的に作製できます。マイクロ流路の試作に最適です。

優れた直線性と温度特性
静的な変位測定のスタンダードモデル

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW