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アプリケーション 一覧

高出力 ファイバーレーザー “TruFiber “

TRUMPF (旧SPI Lasers)

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現

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R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2

Nanoscribe

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

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パルス色素レーザー

Sirah Lasertechnik

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370~920 nm

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ACCESS チップビュー・SPMプローブ

AppNano

シャープなシリコンプローブでAFM探針の試料表面接触時に直接視覚化可能。高い再現性、堅牢性、シャープさをもつナノ加工 高ドープ単結晶シリコンで高解像度イメージングを実現

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PIV アクセサリ

Oxford Lasers

VisiVector PIVシステムには、PIV計測を行うための様々なアクセサリーがあります

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マイクロドリリングシステム“ProbeDrill 355”

Oxford Lasers

高速・微細な多穴加工(円および四角形状)

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オプトジェネティクス用多波長レーザー光源“LightHUB Optogenetics”

Omicron Laserage Laserprodukte

オプトジェネティクス(光遺伝学)用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW@561nm。変調機能付き。

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フォトニック集積回路向け マルチチャンネルソース測定システム

Nicslab Pty Ltd

光学集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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中赤外 広帯域チューナブルレーザー OPPO MIR

NPI Lasers

中赤外 MIR 2.8~4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適

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高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・ラボ

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

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最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

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材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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走査型熱顕微鏡(SThM)用 アンプ VertiSenseユニット/プローブ VTPシリーズ

AppNano

走査型熱顕微鏡(SThM)用アンプ “VertiSenseユニット” を既存のAFMと組み合わせることで、走査型熱顕微鏡測定が可能。ほとんどの市販AFM装置と互換。VertiSenseユニット専用 “VTPプローブ” は、チップ先端に熱電対センサを配置。温度感度0.01℃、最大700℃まで測定可能。

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真空対応 高精度位置センサ

MicroSense

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

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高精度 光波長計(CW専用/CW&パルス両用)

Bristol Instruments

高い波長分解能 (±0.0001 nm) で可視域から中赤外(MIR) 375 nm to 12 μm をカバーする671シリーズと、パルスとCWの両レーザー対応、高速(1kHz), 高い測定確度 (±0.2 ppm)をもつ871シリーズがございます。

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高速ラインスキャンエンジン LSE170/LSE300

Next Scan Technology

テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧

AMPHOS
[オススメ]

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

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ガス・溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 ChemDetect

DRS Daylight Solutions

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

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コンパクト フェムト秒レーザー Goji

Amplitude Systemes

医療・産業分野の厳しい要件を満たす、高品質、超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

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高解像度ダイアモンド・AFMプローブ(ダイヤモンドカンチレバー)

CSInstruments

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ(ダイヤモンドAFMカンチレバー)

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テラワット出力フェムト秒レーザー PULSAR TW

Amplitude Technologies

1TW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大6.25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高10Hz

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ピコ秒レーザーマーキングシステム

Photon Energy
[オススメ]

レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。

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