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高繰り返しパルス Ti:Sapphireレーザー

Sirah Lasertechnik

広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690~1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30~50 ns、繰返し周波数1~3 kHz または 1~10 kHz。

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AFMプローブ・カンチレバー

NanoWorld

NanoWorld社では、代表的なシリーズとして、PointProbe(ポイントプローブ)シリーズ, Arrow(アロー), Pyrex-nitride(パイレックス・ナイトライド)を取り揃えております。

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ポータブル型 粒度分布測定装置 “VisiSize P15 Portable V” (新画像解析式)

Oxford Lasers

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm~3,900μm。速度同時測定モデル

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高速ラインスキャンエンジン LSE170/LSE300

Next Scan Technology

テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現

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2軸ガルバノスキャナ

RAYLASE
[新商品]

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小~中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

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狭線幅&低ノイズ 単一周波数ファイバレーザー“Koherasシリーズ”

NKT Photonics

狭線幅&低ノイズ。DFBレーザーベースの縦モードシングル 単一周波数レーザー。755-780nm, 1μm/1.5μm帯。10mW-15W出力。多彩モデルラインナップ。
ハイパワーSHG出力(755-780nm)モデル Koheras HARMONIKは、量子センシング、レーザー冷却&原子トラップに最適。

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R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2

Nanoscribe

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

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ACCESS チップビュー・SPMプローブ

AppNano

シャープなシリコンプローブでAFM探針の試料表面接触時に直接視覚化可能。高い再現性、堅牢性、シャープさをもつナノ加工 高ドープ単結晶シリコンで高解像度イメージングを実現

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レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS

Sympatec

乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)

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attocube ナノ位置決めステージ概要

attocube systems

高精度ピエゾ駆動モータおよび位置決め製品。超高真空・非磁性対応。ナノオーダーの高精度アライメント用途など産業分野での高精度マシニングから、要件の厳しい最先端の研究アプリケーションにも好適。

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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5軸ステージ付き3D測定顕微鏡 S neox Five Axis

SENSOFAR Metrology

S neox Five Axis 光学式3次元測定装置は、高精度回転ステージモジュールと、S neox 3D測定顕微鏡の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

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窒化シリコン SPMプローブ

AppNano

窒化カンチレバー&シリコンチップ構成のハイブリッドプローブ(Hydraシリーズ)と、カンチレバーとチップ両方とも窒化シリコン製のSPMプローブ(Nitraシリーズ)

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SPMシリコンプローブ

AppNano

最高品質の低抵抗(0.01〜0.025Ω-cm) n型アンチモンドープ単結晶シリコン製。実績の高いシリコン技術と新しい微細加工プロセスにより、シャープなチップを具備した高品質モノリシックプローブを実現。ほとんどの市販AFM装置と互換。

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超小型 フェムト秒レーザオシレータ Mikan

Amplitude Systemes

平均出力1.3W 超コンパクトなフェムト秒レーザーオシレータ。空冷のターンキーシステム。出力パルスエネルギー 24nJ, パルス幅 250fs, 繰返し周波数 54MHz

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プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計)”NBP007″

KEMTRAK

高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

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基板用 高速欠陥検査イメージング装置 AT1

Lumina Instruments

Lumina Instruments社のAT1は、ガラス基板、半導体基板、FPD、フォトマスク、ハードディスク等の基板の欠陥を可視化する高速欠陥検査イメージング装置です。他に類を見ない水準の測定速度とサブナノメートルオーダーの感度が特徴です。

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高速ケミカルイメージングQCL顕微鏡 Spero

DRS Daylight Solutions

業界一の超高速でケミカルイメージ(化学組成マッピング)を測定可能です。1視野のケミカルイメージは35秒で取得できます。固定波数でのイメージングは、毎秒30フレームのリアルタイム取得です。工業サンプルの赤外像を可視化できます。バイオ・医療分野ではがん細胞と正常細胞を赤外吸収スペクトルの違いで判別する研究に応用されています。詳しくは応用例タブをご覧ください。

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100μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Yuja

Amplitude Systemes

多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。

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超高安定性 干渉計 “GEMINI”

NIREOS

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光(コヒーレントまたはインコヒーレント光源)のスペクトルを測定できます。

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クロスコリレータ SEQUOIA

Amplitude Technologies

市販品で最高のダイナミックレンジを持つ3次フェムト秒クロスコリレーター。高ピークパワー・フェムト秒レーザーシステムのレーザーパルス形状の厳密な制御に理想的。

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高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・ラボ

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

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溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo

DRS Daylight Solutions

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧

AMPHOS
[オススメ]

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

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