アプリケーション
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト
400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます
粒度分布測定装置 “VisiSize” PDIA式(新画像解析式)
最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ:1μm ~15,600μm。速度:~1,000m/s@100μm
チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”
690~950 nm, 1200~2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5~9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー
テラワット出力フェムト秒レーザー PULSAR TW
1TW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大6.25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高10Hz
小型CWレーザー“Directシリーズ&Crystalシリーズ”
非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー&DPSSレーザー。375~1444nm。最大出力2500mW。
MicroSense 5800 シリーズ 静電容量変位センサ
高分解能・高速応答。動的変位測定のスタンダードモデル。
ビームプロファイラ ( カメラ式 & スリット式 )
UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工
最大7波長、2本ファイバー搭載可能レーザーコンバイナー ”LightHUB Ultra”
最大7波長のDPSS / LDレーザーモジュール(375~1550 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW
材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
高精度レーザー干渉式変位センサ
ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境(超高真空、高磁場)に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】
ペレット・粉体用 異物検査装置 CALPAS
粉体やペレット・サンプル中の異物を検出 (サイズ, 形状分析による)。粒子のサイズ、色、形状を高速に評価。多彩なサンプル搬送ユニット (乾式, 湿式, ステージ 等)。オフライン、オンラインの両方に対応可能。
400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ
最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。
Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL200シリーズ”
高い安定性・高繰返し・コンパクト。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高22W出力 CW。繰返し周波数 1-100kHz / 20-250kHz。最小パルス幅 6nsのショートパルスタイプをご用意。
真空対応 高精度位置センサ
高真空・超高真空対応プローブ。低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能。
非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”
レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1~500μm)測定用。小型・高速・高精度
AFMプローブ SiN 窒化シリコンプローブ
シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム Twin-air® EDシリーズ
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®
PIV CWレーザー(流れの可視化レーザー)“DPSS Green Laser”
流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー
高速アナログ変調 超小型CWレーザー “LuxX.HSA”
超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー 紫外375~赤外1550 nm 範囲 最大出力300 mW
高精細マイクロ・ハンドディスペンサ
実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ
LIBSオンライン元素分析システム
オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止(鉄鋼製造)PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料(石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど)のオンライン分析等が可能です。
低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL100シリーズ”
レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ(1064, 532 nm)。最高3W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 15ns