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レーザーアブレーション装置

Elemental Scientific Lasers (ESL)

高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

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溶接の可視化装置 VisiWeld

Oxford Lasers

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

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配管据え置き型 インライン濁度計 “TC007”

KEMTRAK

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン

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3軸ガルバノスキャナ

RAYLASE

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

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レーザー加工ヘッド“OPTICEL”

レーザックス

幅広い要求事項に柔軟に対応する、信頼性、品質、カスタマイズ性に優れたレーザー加工ヘッド

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導電性 SPMプローブ

AppNano

特殊な金属コーティング処理した高伝導性ドープ・シリコンプローブを採用。電気力顕微鏡(EFM)や磁気力顕微鏡(MFM)など高度なAFMアプリケーション向けに最適なSPMプローブ。高い解像度と最高の導電性(感度と寿命)を同時に実現。

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分子間相互作用解析装置 “QCM-D”

3T analytik

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

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超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”

NIREOS

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

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インライン用組込型3D測定センサー “S mart & S onix”

SENSOFAR Metrology

インラインの組み込み用に開発された高性能3D測定センサー

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材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe
[新商品]

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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AFMプローブ 高分解能 Hi’Res-C

MikroMasch

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。
 
Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。
 
*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

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PIV アクセサリ

Oxford Lasers

VisiVector PIVシステムには、PIV計測を行うための様々なアクセサリーがあります

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真空対応 高精度位置センサ

MicroSense

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

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非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”

Varioscale

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1~500μm)測定用。小型・高速・高精度

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コントローラー内蔵 超小型CWレーザー“LuxX+ シリーズ”

Omicron Laserage Laserprodukte

バイオテクノロジーや工業用途に最適な小型のワンボックスデザイン。紫外375nm~赤外1550nm 36波長。最大300mW出力。高速変調機能付き。

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AFMプローブ HQシリーズ

MikroMasch

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

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最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー&ガラスレーザー

Amplitude Technologies

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。
Premiumlite-YAG YAGレーザー:>75 J @1064 nm, >55 J @532 nm、繰返し周波数 10 Hz
Premiumlite-Glass ガラスレーザー:>250 J @1053 nm, >200 J @527 nm、繰返し周波数 0.1 Hz

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高精度 光波長計(CW専用/CW&パルス両用)

Bristol Instruments

高い波長分解能 (±0.0001 nm) で可視域から中赤外(MIR) 375 nm to 12 μm をカバーする671シリーズと、パルスとCWの両レーザー対応、高速(1kHz), 高い測定確度 (±0.2 ppm)をもつ871シリーズがございます。

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広帯域 増幅型 Si-InGaAs フォトディテクタ ADC内蔵 “SPIDER”

NIREOS
[新商品]

広帯域増幅型のSi-InGaAs光検出器。比類なき低ノイズプリアンプの開発に成功し、独立した2つの低ノイズアンプを搭載。2色光検出器、8つのプログラム可能なゲインを装備しています。24ビットのデータ収集機能を内蔵。最大56kHz スペクトラム応答範囲Si (2.4 x 2.4mm) 0.32 ~ 1.08μm、InGaAs (Ø1mm) 1.01 ~ 1.7μm。VIS-SWIR に対応

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MicroSense 4800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

優れた直線性と温度特性
静的な変位測定のスタンダードモデル

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チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”

Opotek

690~950 nm, 1200~2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5~9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

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TW, PW Ti:SAレーザーポンプ用 Nd:YAGレーザー TITAN

Amplitude Technologies

数百TW(テラワット)からPW(ペタワット)級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J@532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

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