アプリケーション 一覧

DUVアルゴンレーザー/DUVクリプトンレーザー“Lexel QUANTUM SHG”

Cambridge Lasers Laboratories (Lexel Laser)

高安定性で使い易い周波数ダブリング・イオンレーザーシステム。マルチライン 457.9~528.7nm(Ar), 568.2~676.4nm(Kr)+BBO結晶ベースSHGによるDUV出力。

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動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX

Sympatec

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)

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高解像度ダイアモンド・AFMプローブ(ダイヤモンドカンチレバー)

CSInstruments

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ(ダイヤモンドAFMカンチレバー)

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3D測定顕微鏡 高速・多機能モデル ”S neox”

SENSOFAR Metrology

新しい S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。

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パワーセンサ、エネルギーセンサ

Ophir

測定パワーμW~数十kW、エネルギーpJ~数十J、対応波長UV~IR、CW&パルス等様々な光源に対応

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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3D測定センサーシリーズ一覧

SENSOFAR Metrology

非接触・非破壊で表面の微細形状、粗さ、うねりなどの3D形状を測定することができる組込センサーです。

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超小型CWレーザーモジュール“LuxX”

Omicron Laserage Laserprodukte

バイオ、産業用途に最適なコンパクトなCW LDモジュール。紫外375nm~赤外1550nm。最大300mW出力。

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最大40 μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji

Amplitude Systemes
[新商品]

平均出力パワー:最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ、波長域:257nmから最大4000nm(選択)、繰り返し周波数:2 MHz

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ミリ波・サブテラヘルツ発振器 TeraSchottky

Lytid

パワフルな完全一体型サブ・テラヘルツ発振器。最先端のショットキーダイオード・マルチプライヤ利用。高出力 2~350mW。高いチューナビリティ <12%。周波数 > 75, 150, 300, 600 GHz。コンパクト(<1kg)で使い易い。

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同期システム Sync&Amplock

Amplitude Systemes

Sync&Amplockは、Amplitude Systemes(アンプリチュード・システムズ)社の超高速レーザーと互換性がありアドオンできる最先端の同期ユニットです。 様々な用途で、レーザーシステムを無線周波数、または光学リファレンスと最高精度で同期できます。

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高速アナログ変調 超小型CWレーザー “LuxX.HSA”

Omicron Laserage Laserprodukte

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー 紫外375~赤外1550 nm 範囲 最大出力300 mW

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ファイバ・マルチチャンネル分光器

Brolight Technology

超小型ファイバー分光器。手のひらサイズで低価格・高コストパフォーマンス。\198,000~高性能、高感度の新シリーズ発売( BIM-67シリーズ / BIM-68シリーズ / BIM-69シリーズ)

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パルスコンプレッサモジュール COMPRESS

Amplitude Systemes

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030 nm, 515 nm

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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OEMレーザーマーカー

Photon Energy

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型&コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

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200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ

AMPHOS

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒~ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

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定量的フォーススペクトロスコピー SPMプローブ

AppNano

ナノインデンテーション、フォーススペクトロスコピー、機能化研究、トレンチ深さ計測など。アプリケーションに最適な複数の種類のSPMプローブをラインナップ。特注についてもご相談ください。

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ビームプロファイラ

Ophir

UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。
3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP-400シリーズ”

Canlas

高繰返し 最大4000Hz。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最大出力 4W@4kHz。パルス幅8-10ns

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attocube レーザー干渉式センサ 

attocube systems

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境(超高真空、高磁場)に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

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4インチ対応 原子間力顕微鏡 Nano Observer AFM XL

CSInstruments

CSInstrumentsのフラグシップモデルであるNano Observer AFMの、4インチサンプル対応のモデルが発売されました。もともとCSInstrumentsの得意とする導電性AFM(Resiscope Ⅱ)、ケルビンプローブフォース顕微鏡法(KFM)、走査型マイクロ波インピーダンス顕微鏡法(sMIM)などの機能に加え、4インチまでのサンプルに対応したため、半導体サンプルの評価に応用しやすくなりました。

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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