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アプリケーション
高ピーク出力 QスイッチDPSSレーザー “CP450シリーズ & CP460シリーズ”
QスイッチDPSSレーザー ナノ秒の短パルス 5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。
簡易・小型 原子間力顕微鏡 AFM “CrabiAFM”
CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡（AFM）です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。
画像解析式 粒度/速度分布 測定ソフトウエアー“VisiSizer SOLO”
実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定
高繰返し＆広帯域 フェムト秒OPA Mango
高繰り返し周波数＆広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ（OPA）システム。パルス幅：70～300 fs、繰返し周波数：最高 2 MHz、高い変換効率：12%以上 、波長域：210-11000 nm, 325-2500 nm
インプリント・モールド
3Dから高アスぺクト比形状まで対応
MicroSense 6800 シリーズ 静電容量変位センサ
シリーズ最高分解能・高速応答モデル
高速変位を高精度で測定
PIV 非コヒーレント・マルチ・パルス・レーザー“FireFly 500S”
境界層や壁面流、噴霧やスプレーの可視化、PIV解析用の光源、溶接の可視化に適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタル面の反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大1000 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。
LIBS元素分析システム（ラボ向けモデル）
生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適
超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”
イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。
高解像度ダイアモンド・AFMプローブ（ダイヤモンドカンチレバー）
最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ（ダイヤモンドAFMカンチレバー）
白色干渉計シリーズ一覧
非接触・非破壊で表面の微細な3D形状、および粗さを測定・解析することができる形状計測装置です。装置組込み用顕微鏡ヘッドモデル、テーブルトップモデル、大型ステージ付きモデルまで、用途に応じた幅広いラインナップを提供。
レーザー ベースの非破壊検査システム
レーザーを使った非破壊検査システム。計測・測定ソリューションOCT、LIDAR、共焦点イメージング、フォトルミネッセンス分光測定、3Dマッピング、深度計測が可能。レーザー診断、高精度大型製品向け検査、リベット検査（航空宇宙）、自動車など様々で活用されています。
プロセスフォトメータ（濁度・SS濃度計）”NBP007″
高濃度対応 インラインSS（浮遊物質測定）・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン
AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム
HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。
レーザーアブレーション装置
高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。
材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
粒度分布測定装置 “VisiSize” PDIA式（新画像解析式）
最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ：1μm ～15,600μm。速度：～1,000m/s@100μm
光学顕微鏡付きAFMプラットフォーム FM Nanoview Op AFM
光学顕微鏡を備えたAFMのプラットフォーム。高速走査かつ高分解能、原子力間顕微鏡によるイメージングを実現。空中や液体中での測定に対応。
INCA 多重分光近接ビーコン
VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。
AFM（原子間力顕微鏡）取り扱い製品一覧
日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM（原子間力顕微鏡）を取り揃えております。
超音波減衰式 粒度分布測定装置 OPUS
一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。（測定粒子サイズ 1～3000 µm）
OEMレーザーマーカー
レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。
低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL100シリーズ”
レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ（1064, 532 nm）。最高3W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 15ns
