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AFMプローブ HQシリーズ

MikroMasch

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

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PiFM ナノスケール赤外分光イメージング装置 [光誘起力顕微鏡]

Molecular Vista

世界最高の空間分解能 AFM-IR 装置 [空間分解能<10nm]

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超小型 フェムト秒レーザオシレータ Mikan

Amplitude Systemes

平均出力1.3W 超コンパクトなフェムト秒レーザーオシレータ。空冷のターンキーシステム。出力パルスエネルギー 24nJ, パルス幅 250fs, 繰返し周波数 54MHz

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo

DRS Daylight Solutions

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

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3D測定顕微鏡シリーズ一覧

SENSOFAR Metrology

非接触・非破壊で表面の微細な3D形状、および粗さを測定・解析することができる形状計測装置です。

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クロスコリレータ SEQUOIA

Amplitude Technologies

市販品で最高のダイナミックレンジを持つ3次フェムト秒クロスコリレーター。高ピークパワー・フェムト秒レーザーシステムのレーザーパルス形状の厳密な制御に理想的。

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スタンドアローン型OPOモジュール”Magic PRISM”

Opotek

355 nm, 532nm, 420~1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd:YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

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ビームプロファイラ

Ophir

UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。
3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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Nano-Observer ナノオブザーバーAFM

CSInstruments

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質を持ちながら価格は1000万円を切り、非常にコストパフォーマンスの高いAFMとして注目されています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定(KFM、C-AFM)などに強みがあります。

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NKT Photonics社 産業用途ピコ秒/フェムト秒レーザー

NKT Photonics

NKT Photonics社では産業用途向け光源として、パルス幅はピコ秒からフェムト秒、また最大出力パワー 40W(ピコ秒) までのさまざまなウルトラファーストレーザーを製造しています。繰返し周波数は、可変と固定、またシングルショットパルスやバーストモードを選択でき、アプリケーションに最適な超高速レーザーを提供いたします。多彩な標準モデルだけでなく、OEMにも対応いたします。 お気軽にお問合せください。

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高出力 ファイバーレーザー “TruFiber “( redPOWER® QUBE )

TRUMPF (旧SPI Lasers)

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現

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NanoTest Vantage 多機能ナノインデンター

Micro Materials

押圧試験、硬度試験、ヤング率評価等、薄膜の機械的特性を高分解能で評価。850℃までの高温に対応

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レジスコープ “ResiscopeII”

CSInstruments

AFM 超高感度電流増幅器

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧

AMPHOS
[オススメ]

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

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高速ケミカルイメージングQCL顕微鏡 Spero

DRS Daylight Solutions

業界一の超高速でケミカルイメージ(化学組成マッピング)を測定可能です。1視野のケミカルイメージは35秒で取得できます。固定波数でのイメージングは、毎秒30フレームのリアルタイム取得です。工業サンプルの赤外像を可視化できます。バイオ・医療分野ではがん細胞と正常細胞を赤外吸収スペクトルの違いで判別する研究に応用されています。詳しくは応用例タブをご覧ください。

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レーザークリーニング装置

[オススメ]

100W程度の中出力タイプから最大1600Wの高出力まで、複数のモデルをラインナップ。目的に応じて最適なソリューションをご提案します。

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AFMプローブ SiN 窒化シリコンプローブ

MikroMasch
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基板用 高速欠陥検査イメージング装置 AT1

Lumina Instruments

Lumina Instruments社のAT1は、ガラス基板、半導体基板、FPD、フォトマスク、ハードディスク等の基板の欠陥を可視化する高速欠陥検査イメージング装置です。他に類を見ない水準の測定速度とサブナノメートルオーダーの感度が特徴です。

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Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-200シリーズ”

Canlas

コンパクト・高い安定性・高繰返し。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高12W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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50W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-240シリーズ”

Canlas

50W, 1064nm出力(532 nm開発中)
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。

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ファイバ・マルチチャンネル分光器

Brolight Technology

超小型ファイバー分光器。手のひらサイズで低価格・高コストパフォーマンス。\198,000~高性能、高感度の新シリーズ発売( BIM-67シリーズ / BIM-68シリーズ / BIM-69シリーズ)

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