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レーザー加工ヘッド“OPTICEL”

レーザックス

幅広い要求事項に柔軟に対応する、信頼性、品質、カスタマイズ性に優れたレーザー加工ヘッド

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インライン用組込型3D測定センサー “S mart & S onix”

SENSOFAR Metrology

インラインの組み込み用に開発された高性能3D測定センサー

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高速アナログ変調 超小型半導体レーザー “LuxX.HSA”

Omicron Laserage Laserprodukte

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー 紫外375~赤外1550 nm 範囲 最大出力300 mW

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe
[新商品]

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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コンパクト フェムト秒レーザー Goji

Amplitude Systemes

医療・産業分野の厳しい要件を満たす、高品質、超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

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本質安全防爆 雷免疫 光ファイバ式スイッチ MR386

Micronor

MR386 ZapFree™マイクロスイッチは、本質安全防爆に対応しています。MRI、fMRI、ファントムなどの医療用、高圧線、変圧器タップ、油田、ガス、鉱山、バルブ位置、プロセスモニタリングなど産業用アプリケーションに最適です。雷に対する免疫(イミュニティ)も備えています。世界初の光ファイバ式マイクロスイッチです。

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破片粒子低減 レーザー切断装置 LMTS IR duo

Laser-Mikrotechnologie Dr. Kieburg

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

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高出力/縦単一周波数 半導体レーザー“BrixXシリーズ”

Omicron Laserage Laserprodukte

高出力(BrixX HP)または縦単一周波数(BrixX NB)モデル。375~2080nmの範囲で多彩な波長ラインナップ、最大出力5W

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PIV CWレーザー(流れの可視化レーザー)“DPSS Green and Red Laser”

Oxford Lasers,日本レーザー

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

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材料加工用高出力ダイレクトダイオードレーザー“DIRECTPROCESS 900”

II-VI DIRECTPHOTONICS

高輝度&高出力で、切断・溶接など幅広い材料プロセスに応用可能。波長 900~990nm, 出力パワー 最大 600W

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高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP-400シリーズ”

Canlas

高繰返し 最大4000Hz。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最大出力 4W@4kHz。パルス幅8-10ns

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ビームプロファイラ

Ophir

UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

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防爆 EMI, RFI, 雷耐性 緊急アクチュエータセンサスイッチ MR381

Micronor

MR381シリーズ非常アクチュエータ(E-ACTUATOR)スイッチは、従来の電気機械式ソリューションの機能を超えて、危険な環境、長距離、 EMIイミュニティが必要な場所に展開できる、革新的な緊急信号システムです。

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2μm 広帯域チューナブルレーザー “SuperTune-2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

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ユニバーサル SM/MM DIN レールマウントコントローラ MR380-1

Micronor

MR380シリーズ光ファイバ式シグナリングセンサは、従来の電気機械制御が使用できない場所、特にEMI耐性が要求される場所や過酷な環境で使用されます。
MR380-1 コントローラは、MR380 ZapFREE® E-Stop、EActuator、およびその他のシグナリングセンサ製品用のアクティブな光学・電気的インターフェースです。

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低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-100シリーズ”

Canlas

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ(1064, 532 nm)。最高3W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

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定量的フォーススペクトロスコピー SPMプローブ

AppNano

ナノインデンテーション、フォーススペクトロスコピー、機能化研究、トレンチ深さ計測など。アプリケーションに最適な複数の種類のSPMプローブをラインナップ。特注についてもご相談ください。

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300W出力 ピコ秒レーザー Amphos2000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 300W。ピコ秒パルス 0.9-10ps。微細加工に好適。

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DUVアルゴンレーザー/DUVクリプトンレーザー“Lexel QUANTUM SHG”

Cambridge Lasers Laboratories (Lexel Laser)

高安定性で使い易い周波数ダブリング・イオンレーザーシステム。マルチライン 457.9~528.7nm(Ar), 568.2~676.4nm(Kr)+BBO結晶ベースSHGによるDUV出力。

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高出力レーザー用非接触ビームプロファイラ“BeamWatch”

Ophir

BeamWatch™ ビームウォッチ 非接触・集光スポット径・ビーム位置計測ビームモニタリングシステム。測定パワー範囲 400W – 100kW。波長 980-1080 nm

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超ハイダイナミックレンジ・クロスコリレータ SEQUOIA HD

Amplitude Technologies

1013もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。

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非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”

Varioscale

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1~500μm)測定用。小型・高速・高精度

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ポータブル型 粒度分布測定装置 “VisiSize Portable” (新画像解析式)

Oxford Lasers

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径10μm~3,900μm。速度同時測定モデル

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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