感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能

最大7波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力２W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。

オプトジェネティクス（光遺伝学）用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW＠561nm。変調機能付き。

高い柔軟性＆高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現

最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ：1μm ～15,600μm。速度：～1,000m/s@100μm

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し

波長750～1700nmの光信号出力を-60～+10dBmの範囲で高速モニタリングが可能です。1500シリーズパワーメータは、アクティブファイバーアライメントに最適な対数アナログ出力を備えています。

波長1064nmで70W出力、 532 nmで20W出力。パルス毎にパルスエネルギー変調可能。繰返し周波数 1-400kHz。ショートパルスタイプをご用意。

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器（SMU）です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

高分解能・高速応答。動的変位測定のスタンダードモデル。

S onixは高スループットな産業向け装置組込み用白色干渉計顕微鏡です。ハイスピードカメラと最適化された光学的・機械設計により、S onixは白色干渉計として最速のシステムとなっています。

PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm～ 1550nmに対応。

長寿命プローブ：- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11

平均出力1.3W 超コンパクトなフェムト秒レーザーオシレータ。空冷のターンキーシステム。出力パルスエネルギー 24nJ、パルス幅 250fs、繰返し周波数 54MHz

波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 平均出力 >100 mW /1.3 W。 幅広いゲイン波長域、低ノイズ、優れた出力安定性を有します。

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

高濃度対応 インラインSS（浮遊物質測定）・濁度　計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン