アプリケーション

アプリケーション 一覧

3D測定顕微鏡 高速・多機能モデル ”S neox”

SENSOFAR Metrology

新しい S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ。

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MRI 向け 光ファイバ式インクリメンタルロータリーエンコーダ micronor MR328

Micronor

MR328シリーズ ZapFree® 光ファイバー式インクリメンタルセンサは、磁気共鳴イメージング (MRI)、ナノ磁気検出、EMC テストラボ、および電磁界に対する耐性と透明性が必要とされるアプリケーション向けに設計されました。完全にパッシブで、非金属のインクリメンタルロータリーエンコーダです。センサは全てパッシブな光ファイバ式で、電気を使用しません。標準的な二重62.5/125マルチモード光ファイバリンクを介してリモートコントローラに接続します。

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レーザークリーニング装置

[オススメ]

100W程度の中出力タイプから最大1600Wの高出力まで、複数のモデルをラインナップ。目的に応じて最適なソリューションをご提案します。

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100Hz繰返し 超小型OPOシステム“OPOLETTE HRシリーズ”

Opotek

高繰返し100Hzシリーズ。410~3450nm, UVモジュール装着で210~410nmもカバー

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高エネルギー・フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ ARCO

Amplitude Technologies

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー。最大25mJ。最大繰返し周波数 1kHz。パルス幅 20~100 fs。

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NanoTest Xtreme 高温対応ナノインデンター

Micro Materials

-100~1000℃の温度範囲で薄膜の機械特性(硬度、ヤング率等)を測定できる唯一の装置

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定量的フォーススペクトロスコピー SPMプローブ

AppNano

ナノインデンテーション、フォーススペクトロスコピー、機能化研究、トレンチ深さ計測など。アプリケーションに最適な複数の種類のSPMプローブをラインナップ。特注についてもご相談ください。

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特注ナノ位置決めステージ

attocube systems

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

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3Dマスターモールド製造専用機 Quantum X

Nanoscribe
[新商品]

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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極低温対応ナノ位置決めステージ

attocube systems

極低温環境対応の非磁性ピエゾ駆動ナノポジショナー

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高エネルギーOPOチューナブルレーザー“RADIANTシリーズ”

Opotek

オールインワンデザインの高エネルギー100mJ 波長チューニング出力システム。210~3450nm。繰返し 10 or 20 Hz。パルス幅 5ns。

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中赤外 (MIR) ブロードバンド光源 “ASE-2000” 【NPI Lasers】

NPI Lasers

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。
光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

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真空対応 高精度位置センサ

MicroSense

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

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プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計) ”NBP007″

KEMTRAK

高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

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レーザーアブレーション装置

Elemental Scientific Lasers (ESL)

高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

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MicroSense 静電容量変位センサ一覧

MicroSense

本ページからMicroSense LLCの静電容量センサ全カタログをまとめてダウンロードできます。

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300W出力 ピコ秒レーザー Amphos2000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 300W。ピコ秒パルス 0.9-10ps。レーザー微細加工用光源に好適。

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クロスコリレータ SEQUOIA

Amplitude Technologies

市販品で最高のダイナミックレンジを持つ3次フェムト秒クロスコリレーター。高ピークパワー・フェムト秒レーザーシステムのレーザーパルス形状の厳密な制御に理想的。

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高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・システム

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

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材料プロセス用 ピコ秒DPSSレーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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PIV CWレーザー(流れの可視化レーザー)“DPSS Green and Red Laser”

Oxford Lasers,日本レーザー

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

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導電性 SPMプローブ

AppNano

特殊な金属コーティング処理した高伝導性ドープ・シリコンプローブを採用。電気力顕微鏡(EFM)や磁気力顕微鏡(MFM)など高度なAFMアプリケーション向けに最適なSPMプローブ。高い解像度と最高の導電性(感度と寿命)を同時に実現。

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透明樹脂のレーザー溶着 2μm ファイバーレーザー “PowerWave2000シリーズ” 【NPI Lasers】

NPI Lasers

特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。
材料の特性に合わせて、1900nm – 2100nm から波長を指定できます。

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