ピコリットルの微量塗布を高粘度液剤で実現する高精細塗布描画システムです。Twin-airⓇ ディスペンサを搭載し、1000Pa・sの高粘度液剤でΦ50µmドット、50µm幅ラインの微量塗布が可能。研究開発・試作・量産、搬送ユニット搭載も対応できます。

デスクトップ・パターニングシステムは、高粘度液剤の微細塗布・描画を研究開発や試作段階で実現する装置です。Twin-airⓇ 高精細ディスペンサを搭載し、Φ50µm、50µm以下の微細塗布や最大1000Pa・sの高粘度液剤に対応します。リアルタイムのトップ＆サイドビュー観察、CADデータインポート、X-Yオートアライメント機能により、ダム形成、ダイレクトパターニング、液剤開発や塗布条件最適化を効率的に支援します。

大学・高専・公的研究機関のお客様向けに、除振・光学機器・位置決め装置・分光・レーザー・量子/ライフサイエンス計測まで、在庫/短納期の機種を中心に厳選しました。見積りは当日〜翌営業日を目安（内容により前後）にご提出いたします。年内/年度内納品のご相談も承ります。

HERA VIS-SWIRは、超広帯域スペクトル範囲（400-1700nm）で130万画素のハイパースペクトル画像を撮影可能。可視光域と短波長赤外線の近赤外域の情報を同時に測定し、組み合わせることができます。

Celero PLシステムはフォトルミネセンス マッピングに対応した高速レーザー欠陥スキャナーです。炭化ケイ素（SiC）および窒化ガリウム（GaN）ベースのウエハと化合物半導体材料の表面下欠陥検査とクラス分け機能のニーズに応えるように開発されました。。さまざまなウェーハ処理オプションが用意されており、クラス最高のスループットと感度を備えながら、1パスあたりのコストを最小限に抑え、研究開発と大量生産の双方の対応します。

超解像光学顕微鏡です。回折限界を超えて観察ができます100nm以下の空間分解能で、ナノスケールの構造を非破壊・フルカラーで観察できます。半導体研究開発および先端材料イメージング、またはSEMやAFMの代わりとしてご使用いただけます。対物レンズのみでの販売も可能です。（対物レンズ製品ページリンク 下記）

最先端のAFM（原子間力顕微鏡）Nano-Observer 2は、柔軟性、卓越した性能、使いやすい操作性を兼ね備えつつ、老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質を実現。ナノスケールのイメージングと特性評価のための幅広い機能を備えています。電気特性測定（KFM、C-AFM)、脆いサンプルも測定可能なソフトICモードも実現。

蛍光寿命イメージング解析ソフトウェア 。FLIM（蛍光寿命顕微鏡）、FLIM-FRET（蛍光共鳴エネルギー移動）、異方性データの高速解析を実現する GPUアクセラレーションアルゴリズムを採用。Luminosa、MicroTime 200、LSMアップグレードキットに対応

特定の領域や関心点の高分解能定常発光スペクトルと時間分解発光スペクトルの両方を取得することが可能。空間、スペクトル、寿命測定を一体化した時間分解マイクロフォトルミネッセンス分光のイメージング装置です。

サンプルは12インチ 300 mm × 300 mm まで対応のAFM。ナノ加工における研究開発および故障解析に最適な最先端の ナノ化学測定装置。業界トップクラスの自動化を実現したAFMです。

NanoViewラージスキャナシリーズは4～12インチのサンプルを分割することなく直接観察が可能。表面粗さ、粒子サイズ、ステップ高さなどの3次元表面形状の画像が取得可能な最も直感的で高速かつ費用対効果に優れた産業用AFMです。また自動ポジショニングのための座標の設定も可能で、製品開発と品質管理にとって最適なツールをなっています。

8インチ（200mm）ウエハをそのままサンプルステージに乗せてAFM-IR測定を実施できる大型サンプル対応モデルです。8インチウエハだけでなく、152mmのフォトマスクサンプルにも対応します。高空間分解能のケミカルイメージングのほか、ナノスケールIR分光により、ナノ異物分析にも対応します。IRライブラリにも対応します。

光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器　半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。

ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。

光学顕微鏡を備えたAFMのプラットフォーム。高速走査かつ高分解能、原子力間顕微鏡によるイメージングを実現。空中や液体中での測定に対応。

※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 （±0.1 μm）、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計（厚み計）です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。

シンクロトロン放射によるイメージング用のカスタム対物レンズ。トモグラフィー対応。実用性を高める光学リレー。対物レンズ0.5倍、0.8倍、150㎜　400㎜に対応。経験と知識から光学設計、エンジニアリング、製造、テストと一貫したサービスをご提供します。

超分解能を持つ時間分解共焦点顕微鏡。誘導放出抑制（STED）顕微鏡法を使用。光学分解能50nm未満（STED）、励起640nm（オプション：595nmおよび660nm）、SPADおよびHybrid-PMTを使用した最大6検出チャンネル、ゲート付きSTED（gSTED）とgSTED-FCSをサポート　

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。