レーザー・光源

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高出力マイクロチップレーザー装置 ナノ秒mJパルス“HiPoLas”

Silicon Austria Labs (SAL)

最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2~10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト&高出力

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最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

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1064nm 20W出力ファイバレーザー“KKFL-20”

金門光波

空冷の 1064nm 20W出力 CWレーザー。低ノイズ、狭線幅、高安定性の「ザ・プレミアム」ファイバレーザー。

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最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー&ガラスレーザー

Amplitude Technologies

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー:>75 J @1064 nm, >55 J @532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー:>250 J @1053 nm, >200 J @527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz

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UVフェムト秒レーザー Tangor UV

Amplitude Systemes

出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。

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高エネルギー・フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ ARCO

Amplitude Technologies

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー。最大25mJ。最大繰返し周波数 1kHz。パルス幅 20~100 fs。

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3~13μm ハイパワー CW&パルス波長固定中赤外レーザー“Aries-2”

DRS Daylight Solutions

ハイパワー 中赤外レーザー。CW発振 or パルス発振。堅牢・安定した共振器構造より優れた線幅制御と波長安定性を実現

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