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動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX

Sympatec

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)

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ブルーレーザー 金属加工向け BLシリーズ / ファイバ伝送型 BL-Fシリーズ 

NUBURU
[新商品]

ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長~444nm。BLシリーズ(125W, 250W)とBL-Fシリーズ(125W, 250W, 500W, 1000W)をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。

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高エネルギー OPO 波長可変レーザー“RADIANTシリーズ”

Opotek

オールインワンデザインの高エネルギー120mJ 波長チューニング出力システム。210~3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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粒度分布測定装置 “VisiSize” PDIA式(新画像解析式)

Oxford Lasers

最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ:1μm ~15,600μm。速度:~1,000m/s@100μm

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2μm 狭線幅ファイバレーザー “Ultraline 2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHzレベルの狭線幅。平均出力100 mW /1W。狭線幅&高安定性で幅広い用途で使用いただけます。

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高速アナログ変調 超小型CWレーザー “LuxX.HSA”

Omicron Laserage Laserprodukte

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー 紫外375~赤外1550 nm 範囲 最大出力300 mW

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AFM(原子間力顕微鏡)取り扱い製品一覧

[オススメ]

日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM(原子間力顕微鏡)を取り揃えております。

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基板用 高速レーザー欠陥スキャナー ATシリーズ

Lumina Instruments

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

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ピコ秒パルス&CW発振 ダイオードレーザー“QuixXシリーズ”

Omicron Laserage Laserprodukte

ピコ秒(最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し)&CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375~2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W

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バイオフォトニクス向け フェムト秒ファイバーレーザー Biolit

litilit

クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力2W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。

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AFMプローブ Tipless チップレスカンチレバー

MikroMasch

チップレスシリーズは、チップの片側に異なるばね定数と共振周波数を持つ3つのチップレスカンチレバーを備えています。 本シリーズは以前の12シリーズに代わるものです。
チップレスカンチレバーは材料特性と相互作用の測定に使用できます。 ガラス球やポリスチレン粒子などをチップレスカンチレバーに取り付け、AFMのような実験に適用することができます。

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超小型フェムト秒レーザオシレータ Mikan

Amplitude Systemes

平均出力1.3W 超コンパクトなフェムト秒レーザーオシレータ。空冷のターンキーシステム。出力パルスエネルギー 24nJ、パルス幅 250fs、繰返し周波数 54MHz

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Fura-2 カルシウムイメージング用 LED光源”LedHUB Fura-2”

Omicron Laserage Laserprodukte

Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。

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2軸ガルバノスキャナ

RAYLASE

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小~中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

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最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

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最大6波長出力 プラグ&プレイ・直接変調レーザーコンバイナー”LightHUB+”

Omicron Laserage Laserprodukte

最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール(355~1550 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

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AFMプローブ HQシリーズ

MikroMasch

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

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高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・ラボ

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

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簡易・小型 原子間力顕微鏡 AFM “CrabiAFM”

OME Technology

CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡(AFM)です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

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70W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL240シリーズ”

Canlas

波長1064nmで70W出力、 532 nmで20W出力。パルス毎にパルスエネルギー変調可能。繰返し周波数 1-400kHz。ショートパルスタイプをご用意。

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スタンドアローン型OPOモジュール”Magic PRISM”

Opotek

355 nm, 532nm, 420~1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd:YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

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LIBSシステム(超高速インライン向け)

SECOPTA

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定(カスタムで100kHzまで可)

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小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ

CrystaLaser

超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス

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