アプリケーション
装置組込み用非接触面粗さ計 S mart sensor
S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点(コンフォーカル)の技術による3D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。
超分解能光学顕微鏡 ≦100nm分解能 光学ナノスコープ NANORO M
超分解能を持つ光学顕微鏡(光学ナノスコープ)。回折限界を超えて観察が可能。≦100nm分解能、光学顕微鏡でナノスケールの検査ができます。非破壊、フルカラーでのイメージング ・観察が可能。さまざまな対物レンズをサポート。半導体研究開発および先端材料イメージングにご使用いただけます。
破片粒子低減 レーザー切断装置 LMTS IR duo
破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム Twin-air® EDシリーズ
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®
シンクロトロン用対物レンズ
シンクロトロン放射によるイメージング用のカスタム対物レンズ。トモグラフィー対応。実用性を高める光学リレー。対物レンズ0.5倍、0.8倍、150㎜ 400㎜に対応。経験と知識から光学設計、エンジニアリング、製造、テストと一貫したサービスをご提供します。
最大6波長出力 ハイパワーLED光源”LedHUB”
最大6波長、市場で最高クラスの最大1W高出力LED光源。LEDチップのアクティブ温度コントロールと高安定性電流源で高安定性&高再現性の出力を保証。
R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2
世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。
最大6波長出力 プラグ&プレイ・直接変調レーザーコンバイナー”LightHUB+”
最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール(355~1550 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW
Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL200シリーズ”
高い安定性・高繰返し・コンパクト。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高22W出力 CW。繰返し周波数 1-100kHz / 20-250kHz。最小パルス幅 6nsのショートパルスタイプをご用意。
ADC内蔵・アンプ付き・Si-InGaAs一体型 フォトディテクタ SPIDER
Si, InGaAsの両フォトダイオードと各アンプを1台に搭載し、320~1700nmもの広い応答波長域と、ピコワットレベルの微弱光を検出できる高い感度を実現。さらに24bit ADC(アナログ・デジタル・コンバータ)内蔵で、アナログ/デジタル両シグナルを提供でき、デジタルシグナルはUSB出力でPCへ直接伝送可能。
他に類のない万能フォトディテクタ 税抜定価¥478,000〜
簡易型レーザークリーニング装置
ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速&高品質 表面クリーニングを実現。100W or 200W出力モデル。コーティング除去、サビ取り、塗装の剥離に活用いただけます。
超小型フェムト秒レーザオシレータ Mikan
平均出力1.3W 超コンパクトなフェムト秒レーザーオシレータ。空冷のターンキーシステム。出力パルスエネルギー 24nJ、パルス幅 250fs、繰返し周波数 54MHz
量子相関 蛍光測定用 ソフトウェア
量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。
透明樹脂のレーザー溶着向け 2μm ファイバーレーザー “PowerWave2000シリーズ”
特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。材料の特性に合わせて、1900 nm – 2000 nm から波長を指定できます。
高ピーク出力 QスイッチDPSSレーザー “CP450シリーズ & CP460シリーズ”
QスイッチDPSSレーザー ナノ秒の短パルス 5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。
UVフェムト秒レーザー Tangor UV
出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。
同期システム Sync&Amplock
Sync&Amplockは、Amplitude Systemes社の超高速レーザーと互換性がありアドオンできる最先端の同期ユニットです。 様々な用途において、無線周波数や光学リファレンスと最高の精度でシステム同期できます。
高精度レーザー干渉式変位センサ
ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境(超高真空、高磁場)に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】
AR導光板グレーティング解析システム WG-GAT
AR導光板グレーティングの品質を総合的に評価できる高精度な回折計システムです。完全自動化システムで、回折格子のピッチと方向を測定し、ピコメートルおよび秒角スケールの高い精度で、グレーティング構造の欠陥を検出できます。種類や基板に関係なくあらゆるグレーティングサンプルを測定でき、グレーティング構造の均一性を広い領域にわたって評価できます。
UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™
ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。
AR導光板製造用 自動画像品質検査装置 Production IQ
ARグラス用導光板の製造環境向けに開発された、高速で使いやすい画像品質検査システムです。AR導光板製造の全工程にわたって、一貫した品質管理を実現し、AR導光板の大量生産における高いスループットと歩留まりが得られます。自動合否判定やモーションコントロールなど、簡単操作でコスト削減する一方、ユーザーに合わせた高度な解析を可能にするAPIと高い拡張性を提供します。製造ラインと試作ラインの両方に好適です。
AFMプローブ SiN 窒化シリコンプローブ
シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。
AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム
HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡(MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。
高精細 大型サンプル向け 白色干渉計 共焦点顕微鏡システム S neox Grand Format
半導体、ディスプレイ、プリント基板における大型の基板の3D表面測定が可能な白色干渉計・共焦点顕微鏡システムです。測定ソフトウェア、また特定の測定ニーズに合わせたプラグインも幅広くご用意。アプリケーションに適した測定ソリューションをご提供致します。