アプリケーション

アプリケーション 一覧

Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL200シリーズ”

Canlas

高い安定性・高繰返し・コンパクト。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高22W出力 CW。繰返し周波数 1-100kHz / 20-250kHz。最小パルス幅 6nsのショートパルスタイプをご用意。

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ピコ秒レーザーマーキングシステム

Photon Energy

レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧

AMPHOS
[オススメ]

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

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最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー&ガラスレーザー

Amplitude Technologies

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー:>75 J @1064 nm, >55 J @532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー:>250 J @1053 nm, >200 J @527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz

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AFMプローブ・カンチレバー

NanoWorld

NanoWorld社では、代表的なシリーズとして、PointProbe(ポイントプローブ)シリーズ, Arrow(アロー), Pyrex-nitride(パイレックス・ナイトライド)を取り揃えております。

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AFMプローブ 高分解能 Hi’Res-C

MikroMasch

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

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クリーンルーム対応 装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 S neox Cleanroom sensor

SENSOFAR Metrology
[新商品]

クリーンルーム対応。高い柔軟性を持つ装置組込み用顕微鏡ヘッド。さまざまなアプリケーションに適合します。ISO Class 1及びESDの規格に対応。

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動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC

Sympatec

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。(測定範囲 0.55~34000µm)

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長寿命プローブ

MikroMasch

長寿命プローブ:- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11

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フォトニック集積回路向け マルチチャンネルソース測定システム SMU

Nicslab

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器(SMU)です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

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パルスコンプレッサモジュール COMPRESS

Amplitude Systemes

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

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ツインエアー方式高精細ディスペンサ Twin-airⓇ

エンジニアリング・ラボ

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し

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LIBSオンライン元素分析システム

SECOPTA

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止(鉄鋼製造)PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料(石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど)のオンライン分析等が可能です。

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破片粒子低減 レーザー切断装置 LMTS IR duo

Laser-Mikrotechnologie Dr. Kieburg

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

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チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”

Opotek

690~950 nm, 1200~2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5~9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

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装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 シリーズ一覧

SENSOFAR Metrology

非接触・非破壊で表面の微細形状、面粗度、粗さ、薄膜計測などの3D形状を測定することができる装置組込み用の顕微鏡ユニット 。白色干渉計および3Dレーザー顕微鏡に代表される共焦点顕微鏡技術を搭載。

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プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計)”NBP007″

KEMTRAK

高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

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テラワット出力フェムト秒レーザー PULSAR TW

Amplitude Technologies

1TW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大6.25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高10Hz

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中赤外 (MIR) ブロードバンド光源 “ASE-2000”

NPI Lasers

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

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MicroSense 4800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。

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シンクロトロン用対物レンズ

ASE Optics Europe

シンクロトロン放射によるイメージング用のカスタム対物レンズ。トモグラフィー対応。実用性を高める光学リレー。対物レンズ0.5倍、0.8倍、150㎜ 400㎜に対応。経験と知識から光学設計、エンジニアリング、製造、テストと一貫したサービスをご提供します。

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TW, PW Ti:SAレーザーポンプ用 Nd:YAGレーザー TITAN

Amplitude Technologies

数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J@532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

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高出力・狭線幅 UV & VIS単一周波数レーザー  Koheras HARMONIK

NKT Photonics

高出力(最大10W)で狭線幅(sub-kHz)の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。

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高出力/縦単一周波数 CWレーザー“BrixXシリーズ”

Omicron Laserage Laserprodukte

高出力(BrixX HP)または縦単一周波数(BrixX NB)モデル。375~2080nmの範囲で多彩な波長ラインナップ、最大出力5W

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