境界層や壁面流、噴霧やスプレーの可視化、PIV解析用の光源、溶接の可視化に適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタル面の反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大1000 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

高速・微細な多穴加工（円および四角形状）

レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。

高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速＆高品質 表面クリーニングを実現。100W or 200W出力モデル。コーティング除去、サビ取り、塗装の剥離に活用いただけます。