アプリケーション
900nm帯ターンキー・ダイレクトダイオードレーザー“DIRECTLIGHT 900”
薄板金属の切断・溶接、半田付け、プラスティック溶接などの微細溶接。915/976nm, 140~300W
PiFM ナノスケール赤外分光イメージング装置 [光誘起力顕微鏡]
世界最高の空間分解能 AFM-IR 装置 [空間分解能<10nm]
緊急アクチュエータセンサスイッチ MR381
MR381シリーズ非常アクチュエータ(E-ACTUATOR)スイッチは、従来の電気機械式ソリューションの機能を超えて、危険な環境、長距離、 EMIイミュニティが必要な場所に展開できる、革新的な緊急信号システムです。
100μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Yuja
多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。
真空対応 高精度位置センサ
高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能
HART 高アスペクト比チップ SPMプローブ
高アスペクト比チップ SPMプローブ。スパイク高さ 1, 2, 4, 6µm。0°, 傾き角度補正 3°, 12°。
超ハイダイナミックレンジ・クロスコリレータ SEQUOIA HD
1013もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。
R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2
世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。
コンパクト レーザー微細加工装置 “ALPHAシリーズ”
顧客の要求に沿った最先端レーザー加工システム。1064, 532, 355 nm 発振ナノ秒 DPSSレーザー使用
蛍光式光ファイバ温度計 Photon Control
高い精度と信頼性、素早いカスタム・プロトタイプ対応で半導体/OLED製造装置の温度計測に貢献します。電磁波による影響を受けずに幅広い温度範囲で計測が可能です。
Fura-2 カルシウムイメージング用 LED光源”LedHUB Fura-2”
Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。
UVフェムト秒レーザー Tangor UV
OLEDディスプレイ加工に最適。出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。
プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計)”NBP007″
高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン
中赤外 広帯域チューナブルレーザー OPPO MIR
中赤外 MIR 2.8~4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適
100Hz繰返し 超小型OPOシステム“OPOLETTE HRシリーズ”
高繰返し100Hzシリーズ。410~3450nm, UVモジュール装着で210~410nmもカバー
材料プロセス用 ピコ秒DPSSレーザー CEPHEUS
ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工
配管据え置き型 インライン濁度計 “TC007”
長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン
LIBSシステム(超高速インライン向け)
完全インライン向けLIBSシステム
20kHzの超高繰返し測定(カスタムで100kHzまで可)
3D形状・表面粗測定 ソフトウェアパッケージ
3D形状や表面粗さを測定、解析するための直感的で使いやすいソフトウェアパッケージを装置とセットで提供しています。
超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”
イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。
材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
AFM(原子間力顕微鏡)取り扱い製品一覧
日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM(原子間力顕微鏡)を取り揃えております。
レーザーアブレーション装置
高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。