アプリケーション

アプリケーション 一覧

900nm帯ターンキー・ダイレクトダイオードレーザー“DIRECTLIGHT 900”

II-VI DIRECTPHOTONICS

薄板金属の切断・溶接、半田付け、プラスティック溶接などの微細溶接。915/976nm, 140~300W

Detail

PiFM ナノスケール赤外分光イメージング装置 [光誘起力顕微鏡]

Molecular Vista

世界最高の空間分解能 AFM-IR 装置 [空間分解能<10nm]

Detail

緊急アクチュエータセンサスイッチ MR381

Micronor

MR381シリーズ非常アクチュエータ(E-ACTUATOR)スイッチは、従来の電気機械式ソリューションの機能を超えて、危険な環境、長距離、 EMIイミュニティが必要な場所に展開できる、革新的な緊急信号システムです。

Detail

100μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Yuja

Amplitude Systemes

多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。

Detail

真空対応 高精度位置センサ

MicroSense

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

Detail

HART 高アスペクト比チップ SPMプローブ

AppNano

高アスペクト比チップ SPMプローブ。スパイク高さ 1, 2, 4, 6µm。0°, 傾き角度補正 3°, 12°。

Detail

超ハイダイナミックレンジ・クロスコリレータ SEQUOIA HD

Amplitude Technologies

1013もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。

Detail

R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2

Nanoscribe

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

Detail

コンパクト レーザー微細加工装置 “ALPHAシリーズ”

Oxford Lasers

顧客の要求に沿った最先端レーザー加工システム。1064, 532, 355 nm 発振ナノ秒 DPSSレーザー使用

Detail

蛍光式光ファイバ温度計 Photon Control

Photon Control

高い精度と信頼性、素早いカスタム・プロトタイプ対応で半導体/OLED製造装置の温度計測に貢献します。電磁波による影響を受けずに幅広い温度範囲で計測が可能です。

Detail

Fura-2 カルシウムイメージング用 LED光源”LedHUB Fura-2”

Omicron Laserage Laserprodukte

Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。

Detail

UVフェムト秒レーザー Tangor UV

Amplitude Systemes

OLEDディスプレイ加工に最適。出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。

Detail

プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計)”NBP007″

KEMTRAK

高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

Detail

中赤外 広帯域チューナブルレーザー OPPO MIR

NPI Lasers

中赤外 MIR 2.8~4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適

Detail

100Hz繰返し 超小型OPOシステム“OPOLETTE HRシリーズ”

Opotek

高繰返し100Hzシリーズ。410~3450nm, UVモジュール装着で210~410nmもカバー

Detail

材料プロセス用 ピコ秒DPSSレーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

Detail

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶

Surface Preparation Laboratory (SPL)

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

Detail

配管据え置き型 インライン濁度計 “TC007”

KEMTRAK

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン

Detail

LIBSシステム(超高速インライン向け)

SECOPTA

完全インライン向けLIBSシステム
20kHzの超高繰返し測定(カスタムで100kHzまで可)

Detail

3D形状・表面粗測定 ソフトウェアパッケージ

SENSOFAR Metrology

3D形状や表面粗さを測定、解析するための直感的で使いやすいソフトウェアパッケージを装置とセットで提供しています。

Detail

超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”

NIREOS
[新商品]

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

Detail

材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー

Photon Energy

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

Detail

AFM(原子間力顕微鏡)取り扱い製品一覧

[オススメ]

日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM(原子間力顕微鏡)を取り揃えております。

Detail

レーザーアブレーション装置

Elemental Scientific Lasers (ESL)

高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

Detail
TOPに戻る