アプリケーション
高精度・多層膜・非接触 厚み計 157/137シリーズ
※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 (±0.1 μm)、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計(厚み計)です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。
2μm 狭線幅ファイバレーザー “Ultraline 2000”
発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHzレベルの狭線幅。平均出力100 mW /1W。狭線幅&高安定性で幅広い用途で使用いただけます。
MicroSense 6800 シリーズ 静電容量変位センサ
シリーズ最高分解能・高速応答モデル
高速変位を高精度で測定
5軸ステージ付き白色干渉計 S neox Five Axis
S neox Five Axis 5軸ステージ付き白色干渉計は、高精度回転ステージモジュールと白色干渉計 高速・多機能モデルS neox の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。
LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)
生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適
プロセスフォトメータ(濃度・色モニタ)”DCP007″
インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・色測定に最適。
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン。
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム Twin-air® EDシリーズ
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®
INCA 多重分光近接ビーコン
VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。
attocube ナノ位置決めステージ概要
高精度ピエゾ駆動モータおよび位置決め製品。超高真空・非磁性対応。ナノオーダーの高精度アライメント用途など産業分野での高精度マシニングから、要件の厳しい最先端の研究アプリケーションにも好適。
最大6波長出力 ハイパワーLED光源”LedHUB”
最大6波長、市場で最高クラスの最大1W高出力LED光源。LEDチップのアクティブ温度コントロールと高安定性電流源で高安定性&高再現性の出力を保証。
短波長赤外カメラ SIRIS
高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。
MicroSense 5800 シリーズ 静電容量変位センサ
高分解能・高速応答。動的変位測定のスタンダードモデル。
高精細マイクロ・ハンドディスペンサ
実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ
高出力500mJ ピコ秒/フェムト秒レーザー Magma
最大500 mJもの高パルスエネルギーと最大 1TWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs
高出力 CWファイバーレーザー “TruFiber”
高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現
レーザー光源内蔵 ラマン分光計 “YOA-8401シリーズ”
狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計 励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。
材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
フェムト秒レーザー加工装置 Aシリーズ
高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。
ポータブル型 粒度分布測定装置 “VisiSize P15 Portable” (新画像解析式)
キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm~3,900μm。速度同時測定モデル
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
非接触 200 mm ウエハ対応 AFM-IR装置 Vista 200 PiFM / PiF-IR
非接触大型AFM-IR装置 PiFM 半導体向け200㎜ x 200㎜のウエハをそのまま測定可能です。
1.5μm ポンプレーザーモジュール“PUMP-1560”
発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適
インプリント・モールド
3Dから高アスぺクト比形状まで対応
レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS
乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)