技術情報

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【アプリケーション】TEA CO2 レーザー応用例

9~11 μm 中赤外領域の特性と、短パルス、高エネルギー、高繰返し周波数で多彩な用途で高速・高効率なプロセスが可能

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AFM-IR PiFM ナノスケール赤外分光イメージング装置 [光誘起力顕微鏡] の仕組みと応用例

Molecular Vista

世界最高レベルの空間分解能 AFM-IR 装置 空間分解能<10nm 本ページではその仕組みと応用例について紹介していきます。

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プロセスフォトメータ 適用例

KEMTRAK

Kemtrak社のプロセスフォトメータ(濁度、濃度、色計測)の適用例を紹介します。

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【量子・ナノテク】ダイヤモンド中のNVセンター

NKT Photonics

ダイヤモンドの窒素-空孔(NV)中心は、室温の量子ビットプラットフォームへの応用が可能です。NVセンターを励起するには、波長 450~650 nm の光が必要です。NKT Photonics社のSuperK スーパーコンティニューム白色光レーザーは、調整可能で広範なスペクトルと非常に高いビーム品質により、世界の多くの研究者に利用されています。

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質量分析(CryLas社アプリケーションノート)

CryLaS

CryLaS社小型&低ノイズレーザーシステムによる質量分析の例をご紹介します。

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ヘキサポッド の仕組み 機能性 アプリケーション 6軸平行キネマティックポジショニングシステム

Newport

ヘキサポッドは、最大6つの軸で高負荷容量と精度に対応するステージです。 平行キネマティックモーションデバイスは、多軸ポジショニングのコンパクトなソリューションで6つの自由度(X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー)を持ちます。 ここではその仕組みと優れた機能性、アプリケーションについて紹介いたします。

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Photon Energy レーザー微細加工&レーザー・ストラクチャリング

Photon Energy

フォトンエナジー社 レーザーマーキング・レーザープロセス製品によるアプリケーション例:レーザー微細加工、レーザー・ストラクチャリング

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工作機械(QA,QC)・アプリケーション

ワークピースのサイズのバリエーションや複雑さが増しており、このような高品質な部品への要求が高まるにつれ、超精密な製造装置や検査装置へのニーズが高まっています。attocube社の超小型レーザー干渉式変位センサIDS3010は、認定された精度と最高の柔軟性を備えており、精密加工アプリケーションに最適です。

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テラヘルツ 非破壊検査 レーダーソリューション

Lytid

非破壊検査レーダーソリューション。数十cmまでの高い材料浸透、数千トレース/秒の高い検査率、サブmmの解像度の高解像度3Dイメージングが可能です。非接触検査、インライン検査に適しています。

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザー・アプリケーション例

AMPHOS

AMPHOS社製高出力ピコ秒レーザーは、理科学用途から産業まで非常に広いアプリケーションにお使いいただけます。
理科学用途では、高い平均出力により計測時間を大幅に短縮できます。

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量子光学研究 (Koheras 単一周波数DFBファイバレーザーの活用)

NKT Photonics

量子研究は安定的で低ノイズのレーザーが重要です。さまざまな量子アプリケーションにおいて活用いただける、NKT PhotonicsのKoheras 単一周波数DFBファイバーレーザーにについてご紹介いたします。

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半導体製造工程向けアプリケーション

SENSOFAR Metrology

半導体の製造工程おけるSensofar製品の測定アプリケーションをご紹介します。重要な寸法の測定、3D測定、膜厚測定、粗さの特性評価、欠陥検査などでご使用いただけます。

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横方向励起大気圧(TEA) CO2 レーザーによる差分吸収ライダー CO2-DIAL

PaR Systems社では、製油所の一次スタックからの排出量を監視するLIDARシステムなど低高度の汚染物質監視に最適な、LIDAR用のカスタムTEA CO2レーザーを製造しています。出力波長間の高速切り替え用二重グレーティングの制御機能付きです。

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アブレーション(CryLaS社レーザーアプリケーションノート)

CryLaS

CryLaS社小型&低ノイズレーザーシステムによるアブレーション・アプリケーションの例をご紹介。

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時間分解分光による半導体材料評価

PicoQuant

半導体の電荷キャリアダイナミクスはウェハ材料の性質と品質を直接反映します。この特性を明らかにするため、光励起された電子と正孔の拡散長の正確かつ効率的な測定することが不可欠です。これには時間分解フォトルミネッセンス消光実験、すなわち時間相関単一光子計数(TCSPC)による時間分解フォトルミネッセンス(TRPL)が有効です。PicoQuant社の分光計 FluoTime 300や、励起光源としてTaiko PDL M1 レーザードライバ駆動のピコ秒パルスレーザーにより、電荷キャリアダイナミクスに影響を与える現象を最短サブナノ秒の時間スケールで直接分析できます。

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Photon Energy レーザー・ガラス加工

Photon Energy

フォトンエナジー社 レーザーマーキング・レーザープロセス製品によるアプリケーション例:ガラス加工

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高解像度&リアルタイム テラヘルツイメージング技術

Lytid

Lytid社とボルドー大学 IMS Nanoelectronicグループ(Patrick Mounaix教授)との共同研究による、テラヘルツ技術を駆使したイメージングアプリケーションの研究開発成果をご紹介します。

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スキャトロメトリ 光波散乱計測(CryLaS社レーザーアプリケーションノート)

CryLaS

CryLaS社小型&低ノイズレーザーシステムによるスキャトロメトリ(光波散乱計測)の例をご紹介します。

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【加工例】コンパクト レーザー微細加工装置 “Aシリーズ”

Oxford Lasers

Aシリーズ ナノ秒レーザーを使用したレーザー微細加工例をご紹介します。

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カメラオプション

Photon Energy

シンプル、優れた柔軟性、高精度なレーザーマーキングを可能にするカメラシステム

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【量子技術】原子のレーザー冷却&トラッピング

NKT Photonics

NKT Photonics社のKoherasシリーズ 単一周波数ファイバレーザーは、超低ノイズ、狭線幅、高い周波数安定性、さらには堅牢で信頼性の高いファイバー出力レーザーで、原子トラッピング/原子冷却に最適です。

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光パラメトリック発振 励起用レーザー

Beamtech Optronics

光パラメトリック発振器(OPO)向けの励起用レーザーをラインナップいたしております。

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レーザー誘起蛍光法(CryLas社アプリケーションノート)

CryLaS

CryLaS社小型&低ノイズレーザーシステムによるレーザー誘起蛍光法の例をご紹介します。

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半導体製造装置・アプリケーション

半導体メーカーは、効率的で高密度なチップを製造しなければなりません。生産から品質保証に至るまでのすべての工程に共通する条件は、最高の精度と信頼性を確保し、品質を最大限に高めることです。attocube社の高精度部品は、これらの要求にお応えし、半導体アプリケーションに最先端の技術を提供します。

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