高い柔軟性＆高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

S neox Five Axis 5軸ステージ付き白色干渉計は、高精度回転ステージモジュールと白色干渉計 高速・多機能モデルS neox の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

オプトジェネティクス（光遺伝学）用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW＠561nm。変調機能付き。

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

1つの小型筐体に複数のレーザモジュール（355～1550 nm）を格納。2, 4, 6波長を高効率ファイバ出力。最大出力パワー1W。

信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。

広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690～1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30～50 ns、繰返し周波数１～3 kHz または １～10 kHz｡

最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ：1μm ～15,600μm。速度：～1,000m/s@100μm

特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。材料の特性に合わせて、1900 nm – 2000 nm から波長を指定できます。

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

クリーンルーム対応。高い柔軟性を持つ装置組込み用顕微鏡ヘッド。さまざまなアプリケーションに適合します。ISO Class 1及びESDの規格に対応。

優れた温度特性と高分解能を実現。制御用途でのフィードバックセンサに最適。

>50Hzのパルスレーザーが測定可能。QCLに最適。高い波長精度：±0.08 nm @ 8μm､高い光除去比：20 dB、1〜12μmの波長域。CWレーザーも測定可能。

高繰返し 最大4000Hz。3波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最大出力 4W＠4kHz。パルス幅 8-10ns

卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®

チップレスシリーズは、チップの片側に異なるばね定数と共振周波数を持つ3つのチップレスカンチレバーを備えています。 本シリーズは以前の12シリーズに代わるものです。
チップレスカンチレバーは材料特性と相互作用の測定に使用できます。 ガラス球やポリスチレン粒子などをチップレスカンチレバーに取り付け、AFMのような実験に適用することができます。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

高速・微細な多穴加工（円および四角形状）

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・色測定に最適。
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン。