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廉価版テラヘルツ量子カスケードレーザー(THz-QCL)TeraCascade100  

Lytid

テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー(QCL)ベース。2~5THz。パルス(QCW)。シングル/マルチモード。出力0.1mW以上 at 3.2THz。窒素冷却

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PIV CWレーザー(流れの可視化レーザー)“DPSS Green Laser”

Oxford Lasers,日本レーザー

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

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低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-100シリーズ”

Canlas

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ(1064, 532 nm)。最高3W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

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1.5μm ポンプレーザーモジュール“PUMP-1560”

NPI Lasers

発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

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高速ケミカルイメージングQCL顕微鏡 Spero

DRS Daylight Solutions

業界一の超高速でケミカルイメージ(化学組成マッピング)を測定可能です。1視野のケミカルイメージは35秒で取得できます。固定波数でのイメージングは、毎秒30フレームのリアルタイム取得です。工業サンプルの赤外像を可視化できます。バイオ・医療分野ではがん細胞と正常細胞を赤外吸収スペクトルの違いで判別する研究に応用されています。詳しくは応用例タブをご覧ください。

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コンパクト フェムト秒レーザー Goji

Amplitude Systemes

医療・産業分野の厳しい要件を満たす高品質・超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体

MikroMasch

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体
 
– AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG
– AFM 校正用構造体 TGXYZ
– AFM 校正用構造体 TGX
– AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

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材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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高出力 ファイバーレーザー “TruFiber “

TRUMPF (旧SPI Lasers)

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現

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SPMシリコンプローブ

AppNano

最高品質の低抵抗(0.01〜0.025Ω-cm) n型アンチモンドープ単結晶シリコン製。実績の高いシリコン技術と新しい微細加工プロセスにより、シャープなチップを具備した高品質モノリシックプローブを実現。ほとんどの市販AFM装置と互換。

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Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-200シリーズ”

Canlas

高い安定性・高繰返し・コンパクト。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高22W出力 CW。繰返し周波数 1-100kHz / 20-250kHz。最小パルス幅 6nsのショートパルスタイプをご用意。

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簡易・小型 原子間力顕微鏡 AFM “CrabiAFM”

OME Technology

CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡(AFM)です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

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attocube レーザー干渉式センサ 

attocube systems

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境(超高真空、高磁場)に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

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5軸ステージ付き3D測定顕微鏡 S neox Five Axis

SENSOFAR Metrology

S neox Five Axis 光学式3次元測定装置は、高精度回転ステージモジュールと、S neox 3D測定顕微鏡の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

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2μm 広帯域チューナブルレーザー “SuperTune-2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

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溶接の可視化装置 VisiWeld

Oxford Lasers

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

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LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)

SECOPTA

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

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ビームプロファイラ

Ophir

UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

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画像解析式 粒度/速度分布 測定ソフトウエアー“VisiSizer SOLO”

Oxford Lasers

実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定

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4インチ対応 原子間力顕微鏡 Nano Observer AFM XL

CSInstruments

CSInstrumentsのフラグシップモデルであるNano Observer AFMの、4インチサンプル対応のモデルが発売されました。もともとCSInstrumentsの得意とする導電性AFM(Resiscope Ⅱ)、ケルビンプローブフォース顕微鏡法(KFM)、走査型マイクロ波インピーダンス顕微鏡法(sMIM)などの機能に加え、4インチまでのサンプルに対応したため、半導体サンプルの評価に応用しやすくなりました。

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動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC

Sympatec

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。(測定範囲 0.55~34000µm)

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200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ

AMPHOS

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒~ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

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