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非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”

Varioscale

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1~500μm)測定用。小型・高速・高精度

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200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ

AMPHOS

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒~ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

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ツインエアー方式高精細ディスペンサ Twin-airⓇ

エンジニアリング・ラボ

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し

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動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX

Sympatec

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)

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高解像度ダイアモンド・AFMプローブ(ダイヤモンドカンチレバー)

CSInstruments

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ(ダイヤモンドAFMカンチレバー)

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LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)

SECOPTA

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

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白色干渉計 R&D向けコンパクトモデル ”S lynx”

SENSOFAR Metrology

コンパクトなサイズにSensofarの3-in-1テクノロジーを搭載した卓上型の3D形状測定装置

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ペレット・粉体用 異物検査装置 CALPAS

Scigentec

粉体やペレット・サンプル中の異物を検出 (サイズ, 形状分析による)。粒子のサイズ、色、形状を高速に評価。多彩なサンプル搬送ユニット (乾式, 湿式, ステージ 等)。オフライン、オンラインの両方に対応可能。

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バイオフォトニクス向け フェムト秒ファイバーレーザー Biolit

litilit

クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力2W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。

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小型CWレーザー“Directシリーズ&Crystalシリーズ”

CrystaLaser

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー&DPSSレーザー。375~1444nm。最大出力2500mW。

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ビームプロファイラ ( カメラ式 & スリット式 )

Ophir

UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

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チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”

Opotek

690~950 nm, 1200~2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5~9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

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ADC内蔵・アンプ付き・Si-InGaAs一体型 フォトディテクタ  SPIDER

NIREOS
[新商品]

Si, InGaAsの両フォトダイオードと各アンプを1台に搭載し、320~1700nmもの広い応答波長域と、ピコワットレベルの微弱光を検出できる高い感度を実現。さらに24bit ADC(アナログ・デジタル・コンバータ)内蔵で、アナログ/デジタル両シグナルを提供でき、デジタルシグナルはUSB出力でPCへ直接伝送可能。
他に類のない万能フォトディテクタ 税抜定価 ¥570,000~

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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シンクロトロン用対物レンズ

ASE Optics Europe

シンクロトロン放射によるイメージング用のカスタム対物レンズ。トモグラフィー対応。実用性を高める光学リレー。対物レンズ0.5倍、0.8倍、150㎜ 400㎜に対応。経験と知識から光学設計、エンジニアリング、製造、テストと一貫したサービスをご提供します。

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PIV カメラ

Oxford Lasers

感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能

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高出力500mJ ピコ秒/フェムト秒レーザー Magma

Amplitude Systemes

最大500 mJもの高パルスエネルギーと最大 1TWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs

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ORIGAMI IRO フェムト秒光パラメトリックアンプ(OPA)システム

NKT Photonics

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器(OPA)で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

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R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2

Nanoscribe

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

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ハイエンド リーズナブル価格 AFM Nano-Observer ナノオブザーバー

CSInstruments

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定(KFM、C-AFM)などに強みがあります。

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装置組込み用非接触面粗さ計 S mart sensor

SENSOFAR Metrology
[新商品]

S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点(コンフォーカル)の技術による3D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。

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ガス・溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 ChemDetect

DRS Daylight Solutions

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

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基板用 高速レーザー欠陥スキャナー ATシリーズ

Lumina Instruments

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

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