アプリケーション 一覧

超高安定性 干渉計 “GEMINI”

NIREOS
[新商品]

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。
FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光(コヒーレントまたはインコヒーレント光源)のスペクトルを測定できます。

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最大7波長、2本ファイバー搭載可能レーザーコンバイナー ”LightHUB Ultra”

Omicron Laserage Laserprodukte

最大7波長のDPSS / LDレーザーモジュール(375~1550 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

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3D測定顕微鏡 高速・多機能モデル ”S neox”

SENSOFAR Metrology

新しい S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。

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本質安全防爆 アブソリュートロータリーエンコーダ MR332

Micronor

MR330シリーズ ZapFREE®光ファイバ式アブソリュート ポジション センサは、0°から360°までの絶対的な角度位置を0.025°の分解能で測定します。

この革新的なセンサーシステムは、従来のアブソリュートエンコーダやレゾルバよりも優れ、長距離(最大300メートル)まで干渉なく信号を伝送することができます。
このシステムは、パッシブな光学センサヘッド(MR332)とアクティブコントローラ(MR330)を62.5/125μmマルチモードファイバで接続しています。市販のデュプレックスLCまたは工業グレードのODVA IP-LCデュプレックスから選択できます。

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高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・システム

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

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PIV CWレーザー(流れの可視化レーザー)“DPSS Green Laser”

Oxford Lasers,日本レーザー

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe
[新商品]

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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最大40 μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji

Amplitude Systemes
[新商品]

平均出力パワー:最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ、波長域:257nmから最大4000nm(選択)、繰り返し周波数:2 MHz

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LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)

SECOPTA

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

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3D測定顕微鏡 R&D向けコンパクトモデル ”S lynx”

SENSOFAR Metrology

コンパクトなサイズにSensofarの3-in-1テクノロジーを搭載した卓上型の3D形状測定装置

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インプリント・モールド

日本レーザー

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

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パルス色素レーザー

Sirah Lasertechnik

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370~920 nm

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パルスファイバレーザー ”redENERGY G4″

TRUMPF (旧SPI Lasers)
[オススメ]

高い柔軟性&高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

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材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー

Photon Energy

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

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光ファイバ式 Eストップ MR387

Micronor

MR387シリーズ Eストップは、光ファイバを使用した完全にパッシブなEストップです。爆発性雰囲気、長距離、雷免疫、RFI、EMI が要求される場所に最適です。最大10km 離れた場所でも使用可能です。

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厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト

micro resist technology
[新商品]

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

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テラワット出力フェムト秒レーザー PULSAR TW

Amplitude Technologies

1TW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大6.25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高10Hz

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3軸ガルバノスキャナ

RAYLASE

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

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インライン用組込型3D測定センサー “S mart & S onix”

SENSOFAR Metrology

インラインの組み込み用に開発された高性能3D測定センサー

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コンパクト レーザー微細加工装置 “ALPHAシリーズ”

Oxford Lasers

顧客の要求に沿った最先端レーザー加工システム。1064, 532, 355 nm 発振ナノ秒 DPSSレーザー使用

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レーザーアブレーション装置

Elemental Scientific Lasers (ESL)

高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

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超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”

NIREOS
[新商品]

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

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MicroSense 4800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

優れた直線性と温度特性
静的な変位測定のスタンダードモデル

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超小型 波長可変OPOシステム“OPOLETTEシリーズ”

Opotek

波長範囲410~3450nm, UVモジュール装着で210~410nmもカバー。繰返し周波数20 Hz。パルス幅 7ns。

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