ピコリットルの微量塗布を高粘度液剤で実現する高精細塗布描画システムです。Twin-airⓇ ディスペンサを搭載し、1000Pa・sの高粘度液剤でΦ50µmドット、50µm幅ラインの微量塗布が可能。研究開発・試作・量産、搬送ユニット搭載も対応できます。

デスクトップ・パターニングシステムは、高粘度液剤の微細塗布・描画を研究開発や試作段階で実現する装置です。Twin-airⓇ 高精細ディスペンサを搭載し、Φ50µm、50µm以下の微細塗布や最大1000Pa・sの高粘度液剤に対応します。リアルタイムのトップ＆サイドビュー観察、CADデータインポート、X-Yオートアライメント機能により、ダム形成、ダイレクトパターニング、液剤開発や塗布条件最適化を効率的に支援します。

Structured Light Autocollimation（SLA）を用いた、新しいクラスの表面形状計測システムです。100年の歴史を持つオートコリメーション原理をベースに、完全デジタル化された高分解能の表面計測を可能にします。1回の測定で表面の傾き・形状・欠陥を同時に取得でき、高ダイナミックレンジかつ高速な測定に対応します。1 mm～300 mm の開口に対応し、最大 1 µm 級の横方向分解能と高い再現性を備えており、半導体ウェハ、精密光学部品、フラットパネル、精密加工部品などの形状評価、欠陥可視化、インライン検査や研究開発用途に最適です。

Celero PLシステムはフォトルミネセンス マッピングに対応した高速レーザー欠陥スキャナーです。炭化ケイ素（SiC）および窒化ガリウム（GaN）ベースのウエハと化合物半導体材料の表面下欠陥検査とクラス分け機能のニーズに応えるように開発されました。。さまざまなウェーハ処理オプションが用意されており、クラス最高のスループットと感度を備えながら、1パスあたりのコストを最小限に抑え、研究開発と大量生産の双方の対応します。

Spacetek Technology社の IonTamer™ は飛行時間型の質量分析計 / 残留ガス分析器 (TOF-RGA) です。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニターします。世界最高性能のRGAであるIonTamer™は、これまで実験室用装置でしか得られなかった性能を、コンパクトで扱いやすく、組み込み可能にしました。半導体製造、OLEDディスプレイ製造、光学部品、ソーラーパネル製造、真空コーティングプロセス（CVD、PVD、ALD）、真空炉、冶金、超高真空などでの研究、過酷な環境下での用途に対応します。

Quantum X shapeは、2光子重合（2PP）をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHｚレベルの狭線幅。平均出力100 mW /１W。狭線幅＆高安定性で幅広い用途で使用いただけます。

波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 平均出力 >100 mW /1.3 W。 幅広いゲイン波長域、低ノイズ、優れた出力安定性を有します。

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。材料の特性に合わせて、1900 nm - 2000 nm から波長を指定できます。

エアー式ディスペンサでは実現不可能な細線描画、ピエゾ式インクジェットでは不可能な高粘度吐出を可能にする従来の常識を覆した高機能パターニング技術。

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し